[发明专利]相变型光记录介质及其制造方法和记录方法无效
申请号: | 98802922.7 | 申请日: | 1998-02-24 |
公开(公告)号: | CN1249056A | 公开(公告)日: | 2000-03-29 |
发明(设计)人: | 小川周一郎;森本勋;西村和浩;寺田正人 | 申请(专利权)人: | 旭化成工业株式会社 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/26;G11B7/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
一种相变型光记录介质,该相变型光记录介质具有反射率关系Rc | ||
搜索关键词: | 相变 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种相变型光记录介质,该记录介质至少包括衬底和在其一面上形成的、根据照射光束的强度进行晶态和非晶态相变的记录层,该记录层在晶态时的反射率比在非晶态时的反射率小,其中:所述记录层形成为稳定非晶态。
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