[发明专利]用于光刻胶组合物的抗反射涂料组合物及光刻胶成像方法有效

专利信息
申请号: 98804589.3 申请日: 1998-04-21
公开(公告)号: CN1159627C 公开(公告)日: 2004-07-28
发明(设计)人: 丁术季;卢炳宏;D·N·科汉纳;单鏗会;D·L·杜尔哈德;R·R·旦莫尔;M·D·拉赫曼 申请(专利权)人: 克拉里安特国际有限公司
主分类号: G03F7/09 分类号: G03F7/09;C08F8/30;G03F7/11
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 陈季壮
地址: 瑞士*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 发明涉及一种包含在溶剂组合物中的新颖聚合物的抗反射涂料组合物。本发明还包含所述抗反射涂料组合物在照相平版印刷术中的使用方法。所述抗反射涂料组合物包含:新颖的聚合物和溶剂组合物,其中所述抗反射涂料中的新颖聚合物包含:至少一种含有吸收约180纳米至约450纳米的染料的单元,和至少一种不含芳香官能度的单元。所述溶剂可以是有机溶剂,优选的是低毒性溶剂,或者可以是水,所述溶剂另外还可以包含其它与水可混溶的有机溶剂。
搜索关键词: 用于 光刻 组合 反射 涂料 成像 方法
【主权项】:
1.一种适用于照相平版胶印印刷技术的抗反射涂料组合物,包含:(a)一种聚合物,所述聚合物包含至少一种带下述结构的染料单元:式中,R1-R4独立地为氢、烷基、烷氧基、卤、氰基、芳基、芳烷基、羟基、氟代烷基、硝基、烷基醚、磺酸、磺酸酯、羧酸、羧酸酯、或羧酸或磺酸的碱金属盐,其中R1-R4中的碳原子数为1-5;X为N=N;Y为芳基,芳烷基,杂环或烷基;m=1-3;和至少一个下式的非芳香共聚单体单元:式中R6-R9独立地为氢、烷基、烷氧基、卤、氨基、羟基、氟代烷基、烷基醚、酰胺、烷基酰胺、羧酸、羧酸酯、磺酸、磺酸酯、羧酸和磺酸的碱金属盐、交联基团、或R8和R9结合形成酸酐基团;(b)一种溶剂组份,其中所述聚合物的含量为组合物总重量的1-30%。
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