[发明专利]基片干燥装置无效
| 申请号： | 98805367.5 | 申请日： | 1998-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN1143290C | 公开（公告）日： | 2004-03-24 |
| 发明（设计）人： | K·维伯尔;U·施贝尔 | 申请（专利权）人： | 施蒂格哈马技术股份公司 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26;F26B15/04;F26B3/28 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 崔幼平;章社杲 |
| 地址： | 联邦德国斯*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 对于所提出的通过紫外线照射干燥基片盘(3)的设备，其中在照射过程期间，一个玻璃板(11)放置在基片盘(3)上利用简单的技术手段和采用简单的设备操作，通过一个升降的上部(6)得到或自行得到低废品率和成品基片盘的高品质，上部要落到放置在下部(23)上的基片盘(3)上。 | ||
| 搜索关键词： | 干燥 装置 | ||
【主权项】：
1.通过用紫外光线的照射使基片圆盘(3)干燥的装置，其中在照射过程中有一个玻璃板(11)放置在基片圆盘(3)上，同时一个可抬起和可降下的上部(6)使玻璃板(11)降下在位于一个下部(23)上的基片圆盘(3)上，其特征在于，上部(6)具有一个玻璃板支座(32，33)，当上部(6)降下以把玻璃板(11)放置到基片圆盘上时该支座降下至玻璃盘下。
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