[发明专利]光学部件的制造方法及由该方法制成的光学部件无效
| 申请号： | 98807416.8 | 申请日： | 1998-07-07 |
| 公开（公告）号： | CN1285924A | 公开（公告）日： | 2001-02-28 |
| 发明（设计）人： | A·贝甘;P·勒于得 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/02 | 分类号： | G02B6/02;G02B6/26;G02B6/28;G02B6/32;G02B6/34 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 张政权 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 通过这样一种工艺来制造包括与一个或多个波导(25’)的末端对准的一个或多个光学元件(35’)的光学部件,其中,首先在衬底(10)(或在衬底的缓冲层上)上淀积经掺杂的氧化硅核心层(20),随后在核心层上淀积通常为1－5μm厚的局部外包层(30A)。对局部外包层和核心层进行构图和蚀刻,从而同时限定光学元件和波导核心。其后,通过淀积另一外包层(30B)而完成外包层。在把此制造方法应用于基于光栅的NBWDM器件时,光栅的金属化可在淀积第二外包层部分(30B)之前或之后进行。在任一种情况下,淀积此第二外包层部分都需要低温淀积工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 部件 制造 方法 制成 | ||
【主权项】：
1．光学部件的制造方法，所述光学部件包括至少一个波导以及放置成面向每个波导的末端的至少一个光学元件，所述方法包括在衬底上淀积核心层以形成每个波导的核心的步骤，其特征在于还包括以下步骤：在所述核心层上淀积局部外包层；对所述核心层和局部外包层进行构图，从而同时限定光学元件和每个波导的核心；以及淀积另一外包层。
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