[发明专利]喷射等离子体方法,沉积涂层的设备及制得的涂层

摘要

本发明提供一种在基片上形成有机涂层的方法,包括提供在真空中的基片;提供至少一种含有来自至少一个料源的至少一种组分的气化有机物质,在低于约130Pa的真空度下该有机物质能冷凝;从非气化的有机物质料源的至少一个料源提供等离子体;将所述气化的有机物质和所述等离子体导向基片;以及在等离子体的存在下,使气化的有机物质冷凝并聚合在所述基片上,形成有机涂层。还公开了在基片(75)上形成涂层的喷射等离子体设备,它包括阴极设备(40)、阳极设备(60)和用于提供气化的有机物质的给油设备(120),使得有机物质和等离子体(160)在与基片接触前或与基片接触时相互作用。

主权项

1.一种在基片上形成有机涂层的方法，它包括：提供在真空中的基片；提供至少一种气化的有机物质，它包括来自至少一个料源的至少一种组分，在低于约130Pa的真空度下该气化的有机物质能冷凝；从非所述气化的有机物质料源的至少一个料源提供等离子体；将所述气化的有机物质和所述等离子体导向基片；以及在等离子体的存在下，使气化的有机物质冷凝并聚合在所述基片上，形成有机涂层。