[发明专利]用于沉积薄膜的双频等离子激发

摘要

本发明涉及一种在反应器中的透明衬底上沉积高质量薄膜的设备。透明衬底可以由玻璃、石英或聚合物如塑料等制成。在处理室中加热透明衬底并将处理气流通入处理室中。该设备分别从高频和低频电源中产生高频电源输出和低频电源输出。高频电源输出的频率等于或大于约13兆赫兹,功率在约1到5千瓦之间,而低频电源输出的频率等于或小于约2兆赫兹,功率在约300瓦到2千瓦之间。高频电源输出和低频电源输出叠加在一起,从处理气流中激发等离子,在约0.4到3乇的压力下、和约250到450℃的温度下,在透明衬底上沉积光滑的薄膜。

主权项

1.一种沉积薄膜的方法，包括下列步骤：在处理室中对透明衬底加热；将处理气流通入处理室；产生高频电源输出；产生低频电源输出；将所述高频电源输出和低频电源输出叠加；以及用叠加的高频和低频电源输出从处理气体中激发等离子，以在大约0.4到3乇之间的压力、和大约250到450℃之间的温度下将薄膜沉积在透明衬底上。