[发明专利]非辐射介质线及其集成电路无效

专利信息
申请号: 98812268.5 申请日: 1998-12-15
公开(公告)号: CN1282450A 公开(公告)日: 2001-01-31
发明(设计)人: 齐藤笃;西田浩;谷崎透;高桑郁夫 申请(专利权)人: 株式会社村田制作所
主分类号: H01P3/16 分类号: H01P3/16;H01P1/04
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 沈昭坤
地址: 日本京都*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 在非辐射介质线中,在两个介质板中形成相对的缝隙,在两个缝隙中都设置介质带,以构成NRD波导,沿相对于电磁波传播方向的宽度方向突出的;突出部分(P)形成在介质带(3)的预定位置,而在介质板(1)和(2)的缝隙内表面中形成凹部(H)。配防止了由于介质带的移动引起的特性的变化,介质带通过机械加工制造。另外,保持了传输线的特性,而不扰乱要传播的模式的电磁场的分布。
搜索关键词: 辐射 介质 及其 集成电路
【主权项】:
1.一种非辐射介质线,其特征在于包含:两个大致上相互平行的导电板,在所述两个导电板上分别形成相对的缝隙,和设置在所述缝隙之间的介质带,其中,在所述介质带的预定位置处形成沿电磁波的传播方向的横向突出的凸部或沿电磁波的传播方向的横向凹陷的凹部,同时,在所述两个导电板中的缝隙的内表面上分别形成与所述介质带的所述凸部或所述凹部匹配的凹部或凸部。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社村田制作所,未经株式会社村田制作所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/98812268.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top