[发明专利]非辐射介质线及其集成电路无效
申请号: | 98812268.5 | 申请日: | 1998-12-15 |
公开(公告)号: | CN1282450A | 公开(公告)日: | 2001-01-31 |
发明(设计)人: | 齐藤笃;西田浩;谷崎透;高桑郁夫 | 申请(专利权)人: | 株式会社村田制作所 |
主分类号: | H01P3/16 | 分类号: | H01P3/16;H01P1/04 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 沈昭坤 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 在非辐射介质线中,在两个介质板中形成相对的缝隙,在两个缝隙中都设置介质带,以构成NRD波导,沿相对于电磁波传播方向的宽度方向突出的;突出部分(P)形成在介质带(3)的预定位置,而在介质板(1)和(2)的缝隙内表面中形成凹部(H)。配防止了由于介质带的移动引起的特性的变化,介质带通过机械加工制造。另外,保持了传输线的特性,而不扰乱要传播的模式的电磁场的分布。 | ||
搜索关键词: | 辐射 介质 及其 集成电路 | ||
【主权项】:
1.一种非辐射介质线,其特征在于包含:两个大致上相互平行的导电板,在所述两个导电板上分别形成相对的缝隙,和设置在所述缝隙之间的介质带,其中,在所述介质带的预定位置处形成沿电磁波的传播方向的横向突出的凸部或沿电磁波的传播方向的横向凹陷的凹部,同时,在所述两个导电板中的缝隙的内表面上分别形成与所述介质带的所述凸部或所述凹部匹配的凹部或凸部。
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