[发明专利]微孔膜及其制备方法无效
| 申请号： | 98812632.X | 申请日： | 1998-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN1283134A | 公开（公告）日： | 2001-02-07 |
| 发明（设计）人： | 李相英;金明万;宋宪植 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | B01D67/00 | 分类号： | B01D67/00;B01D69/00;B01D71/26 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 甘玲 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种制备微孔膜的方法,其包括将一种聚合物在该聚合物熔点+10℃至聚合物熔点+100℃的温度下挤出;将挤出后的聚合物在10－150℃下以5－120米/分的速率拉伸制成聚合物膜将该聚合物膜在聚合物熔点－100℃至聚合物熔点－5℃的温度下退火10秒至1小时;用能量为10－2～107Kev的离子粒以102～1020个离子/cm2的量、在真空度为10－2～10－8毫米汞柱下辐照经退火的聚合物膜的两个表面,辐照距离为5～100cm;在－20℃至聚合物熔点－40℃的温度下对辐照后的聚合物膜进行冷拉伸;在聚合物熔点－40℃至聚合物熔点－5℃的温度下对经冷拉伸后的薄膜进行热拉伸;且在聚合物熔点－80℃至聚合物熔点－5℃的温度下对热拉伸后的聚合物膜进行热定形。 | ||
| 搜索关键词： | 微孔 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种通过在真空下用高能的离子束辐照聚合物膜而制备微孔膜的方法。
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