[发明专利]光学投影系统中的薄膜驱动的反光镜组的制造方法无效

专利信息
申请号: 98812785.7 申请日: 1998-03-20
公开(公告)号: CN1283369A 公开(公告)日: 2001-02-07
发明(设计)人: 黄圭昊 申请(专利权)人: 大宇电子株式会社
主分类号: H04N9/31 分类号: H04N9/31;G02B26/08
代理公司: 柳沈知识产权律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开一种薄膜AMA的制造方法。第二牺牲层(215)是利用非晶硅、多晶硅或流动性的材料形成的,第一牺牲层(145)是利用非晶硅或多晶硅形成的。由于形成第一和第二牺牲层(145和215)以得到均匀的表面,使反射件具有平整的表面,从而光效率得以提高。另外,由于第二牺牲层(215)是利用氧等离子体或氟化溴或氟化氙的蒸气去除的,并且第一牺牲层(145)是利用氟化溴或氟化氙的蒸气去除的,所以活性基体(100)、活性层(165)和反射件(220)不会损坏。
搜索关键词: 光学 投影 系统 中的 薄膜 驱动 反光镜 制造 方法
【主权项】:
1.一种光学投影系统中的薄膜驱动的反光镜组的制造方法,所述方法包括下列工序:提供一个活性基体,该活性基体具有:ⅰ)一块由金属氧化物半导体制成的,用于开关操作的基片,和ⅱ)包括一个从金属氧化物晶体管的漏极延长出来的漏极垫的第一个金属层;在所述活性基体上,利用低压化学气相沉积法形成第一个牺牲层;对所述第一个牺牲层上构图,使具有漏极垫的所述活性基体的一部分露出后,形成具有一个支撑部分和一个支承层的支承装置;在所述支承装置上形成一个具有一个底部电极,一个活性层和一个顶部电极的致动器;在所述致动器上形成第二个牺牲层;对所述第二个牺牲层构图,使所述顶部电极的一部分露出;在所述顶部电极的露出部分和所述第二个牺牲层上,形成一根杆柱和一个反光装置;除去所述第二个牺牲层;和除去所述第一个牺牲层。
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