[发明专利]化学机械抛光装置和化学机械抛光方法无效
| 申请号： | 99100796.4 | 申请日： | 1999-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN1098746C | 公开（公告）日： | 2003-01-15 |
| 发明（设计）人： | 铃木三惠子;土屋泰章 | 申请（专利权）人： | 日本电气株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;H01L21/304 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 穆德骏,余朦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于抛光衬底的装置，包括(a)形成有多个通孔的抛光垫片(4)，抛光浆料(6)通过这些通孔输送到所述抛光垫片(4)表面上；(b)其上安装抛光垫片(4)的水平台(3)；和(c)用于支撑衬底(1)的可旋转载体(2)，载体(2)面对所述水平台(3)设置，水平台(3)可绕其自身的旋转轴(3A)旋转，水平台的旋转轴(3A)绕着可旋转载体的轴线转动，使抛光垫片(4)与衬底(1)接触，用于抛光衬底(1)，其特征在于，抛光垫片(4)具有不形成通孔且与其同心的第一环形(4a)或圆形(4e)区域。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.用于抛光衬底的装置，包括：(a)形成有多个通孔的抛光垫片(4)，抛光浆料(6)通过这些通孔输送到所述抛光垫片(4)表面上；(b)其上安装所述抛光垫片(4)的水平台(3)；和(c)用于在其上支撑衬底(1)的可旋转载体(2)，所述载体(2)面对所述水平台(3)设置；所述水平台(3)可绕着其自身的旋转轴(3A)旋转，而所述水平台的旋转轴(3A)绕着可旋转载体的轴线转动，并使所述抛光垫片(4)与所述衬底(1)接触，用于抛光所述衬底(1)，其特征在于，所述抛光垫片(4)具有在其中不形成通孔且与抛光垫片同心的第一环形(4a)或圆形(4e)区域。
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