[发明专利]自动稳定化学浴的系统无效

专利信息
申请号: 99104039.2 申请日: 1994-01-13
公开(公告)号: CN1281909A 公开(公告)日: 2001-01-31
发明(设计)人: W·G·科泽克;J·C·托平 申请(专利权)人: 亨凯尔公司
主分类号: C25D21/22 分类号: C25D21/22;B01J47/02;B01J49/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 龙传红
地址: 美国宾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种能从化学浴中定期地除去金属离子和污染物的自动化系统,其中包括一台微处理机,它可控制泵和阀门的流动回路,首先将第一份预定数量的化学浴从第一槽中循环流过一个离子交换柱并回到第一槽;再将去离子水从第二槽循环进入IEX柱以便顶替走其中的残留化学浴,使其回到第一槽;将去离子水循环流过IEX柱;将再生剂酸经过离子交换树脂循环将去离子水经过IEX柱循环,以便冲洗其中的酸再生剂;将化学浴循环送入IEX柱中,顶替走其中残留的冲洗水,为化学浴的处理循环作准备。
搜索关键词: 自动 稳定 化学 系统
【主权项】:
1.一种自动稳定化学浴的系统,其中包括至少定期地从化学浴中除掉金属离子和污染物,该系统包括:装有去离子水(DI水)的第一槽;装有化学再生剂的第二槽;装有化学浴的第三槽;装有离子交换树脂的离子交换(IEX)柱,用于除去通过柱的化学浴内的金属离子污染物;从该系统中排放掉废产物以便处理的废物出口;由第一泵控制信号起动的第一泵装置;由第二泵控制信号起动的第二泵装置;与第一泵装置和IEX柱串联的第一阀门装置,它位于第三槽和废物出口之间;与第一泵装置和IEX柱串联的第二阀门装置,由第三槽出发又回到第三槽;与第二泵装置和IEX柱串联连接的第三阀门装置,位于第一槽和第三槽之间;与第二泵装置和IEX柱串联连接的第四阀门装置,位于第一槽和废液出口之间,用于为DI水提供一个经IEX柱沿一个方向流动的途径;与第二泵装置和IEX柱串联的第五阀门装置,位于第二槽和废液出口之间;和程序编制成能提供自动工艺控制程序的控制器,该控制程序包括以下的连续操作状态:第一操作状态,用于从IEX柱中除掉残留的DI水,并从废水口排放掉除去的DI水,该第一状态程序包括:向第一阀门装置发出和施加操作信号以开启该阀门的装置;和向第一泵装置发出和施加第一泵控制信号的装置,用来将预定数量的化学浴泵送到IEX柱,从中顶替走多余的DI水,并将多余的DI水从废物口排放掉;和第二操作状态,用于将化学浴进料流过IEX柱,以便从该化学浴中除掉金属离子,第二状态程序包括:向第二阀门装置发出和施加操作信号以开启该阀门的装置;向第一泵送装置发出和施加第一泵控信号的装置,用以将预定数量的化学浴泵送流过IEX柱以便处理,并由此送返到第三槽。
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