[发明专利]含有高比例有机硅二硫烷的有机硅低聚硫烷混合物的制备方法无效
| 申请号： | 99105867.4 | 申请日： | 1999-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN1247867A | 公开（公告）日： | 2000-03-22 |
| 发明（设计）人： | 鲁道夫·米歇尔;约尔格·明岑贝格 | 申请（专利权）人： | 德古萨－于尔斯股份公司 |
| 主分类号： | C07F7/08 | 分类号： | C07F7/08 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 甘玲 |
| 地址： | 联邦德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及含有高二硫烷含量的有机硅二硫烷混合物的制备方法,该方法是通过1.在有机溶剂中使细碎的钠与硫反应,以及2.将所得到的Na2SX进一步与卤代烷基烷氧基硅烷反应以得到所需产品。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 比例 有机硅 二硫烷 低聚硫烷 混合物 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、以两步反应制备含有高比例的如下通式的二硫烷的有机硅低聚硫烷混合物的方法Z-Alk-Sx-Alk-Z (I)其中Z是下面基团其中R1是具有1～6个碳原子的线性或支化烷基、具有5～8个碳原子的环烷基、由甲基、乙基或氯选择性取代的苄基或苯基，并且R2是具有1～6个碳原子的线性或支化碳链的烷氧基、具有5～8个碳原子的环烷氧基、苯氧基或苄氧基，在每一种情况下R1和R2可能具有相同或不同的含义，Alk是具有1～10个碳原子的二价饱和线性或支化烃基，或是下面基团其中n＝1～4，和x＝1.5～3.0，其特征在于1)细碎钠的悬浮液与硫以相应于要制备的Na2Sx的化学计量、在惰性有机溶剂中于高于98℃的温度和在惰性气体下反应，并将形成的Na2Sx滤出，选择性地清洗和干燥，以及2)将该Na2Sx部分或全部溶解或悬浮于惰性有机溶剂中，并与具有下面通式(II)的化合物反应：Z-Alk-Hal (II)其中Z和Alk如上定义，且Hal是氯或溴原子，并分离所需的有机硫烷混合物。
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