[发明专利]光记录介质及其制造方法无效
申请号: | 99106992.7 | 申请日: | 1999-06-04 |
公开(公告)号: | CN1239283A | 公开(公告)日: | 1999-12-22 |
发明(设计)人: | 安孙子透;宫田一智 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | G11B7/00 | 分类号: | G11B7/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王以平 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种性能优良的光记录介质及其制造方法,该光记录介质具有由可发生晶态和非晶态可逆相变的相变型材料形成的记录层,且通过光束照射在该记录层上时引起该记录层上的相变,由此记录和/或擦除信息信号。该记录层包含作为相变型材料的AgαInβSbγTeδ,其中各组元的原子百分数α、β、γ、δ满足式6≤α≤16;1.1≤δ/β≤2.2以及2≤γ/δ≤3。 | ||
搜索关键词: | 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种光记录介质,该光记录介质具有由可发生晶态和非晶态可逆相变的相变型材料形成的记录层,且通过光束照射在该记录层上引起该记录层上的相变,由此记录和/或擦除信息信号,其特征在于:所述记录层包含作为相变型材料的AgαInβSbγTeδ,其中各组元的原子百分数α,β,γ,δ满足式6≤α≤16、1.1≤δ/β≤2.2以及2≤γ/δ≤3。
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