[发明专利]光记录介质及其制造方法无效

专利信息
申请号: 99106992.7 申请日: 1999-06-04
公开(公告)号: CN1239283A 公开(公告)日: 1999-12-22
发明(设计)人: 安孙子透;宫田一智 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: G11B7/00 分类号: G11B7/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王以平
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种性能优良的光记录介质及其制造方法,该光记录介质具有由可发生晶态和非晶态可逆相变的相变型材料形成的记录层,且通过光束照射在该记录层上时引起该记录层上的相变,由此记录和/或擦除信息信号。该记录层包含作为相变型材料的AgαInβSbγTeδ,其中各组元的原子百分数α、β、γ、δ满足式6≤α≤16;1.1≤δ/β≤2.2以及2≤γ/δ≤3。
搜索关键词: 记录 介质 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种光记录介质,该光记录介质具有由可发生晶态和非晶态可逆相变的相变型材料形成的记录层,且通过光束照射在该记录层上引起该记录层上的相变,由此记录和/或擦除信息信号,其特征在于:所述记录层包含作为相变型材料的AgαInβSbγTeδ,其中各组元的原子百分数α,β,γ,δ满足式6≤α≤16、1.1≤δ/β≤2.2以及2≤γ/δ≤3。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼株式会社,未经索尼株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/99106992.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top