[发明专利]用于工业射线照相术的新产品无效
| 申请号： | 99107670.2 | 申请日： | 1999-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN1236906A | 公开（公告）日： | 1999-12-01 |
| 发明（设计）人： | G·M·德罗因;J·劳斯赫 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | G03C1/10 | 分类号： | G03C1/10 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王其灏 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于高能量电离辐射曝光的卤化银射线照相术产品。本发明还涉及一种形成射线照相术图像的新型射线照相术系统和方法。本发明的用于工业射线照相术的产品使潜像的保持能力得到提高,并提供了更高的感光速率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 工业 射线 照相术 新产品 | ||
【主权项】：
1．用于进行能量至少是40KeV的电离辐射曝光的，具有至少50mg/dm2银含量的非光谱感光射线照相术产品，其中包括涂敷在具有卤化银乳液层的其至少一个侧面上的支撑，该乳液层中至少50％的颗粒是板状颗粒，且其至少含有0.05mmol/molAg的下式化合物其中R1和R2各自表示氢原子、包含1至5个碳原子的取代的或非取代的烷基，羟基或苄基，且R3和R4各自表示氢原子或包含1至5个碳原子的烷基，或共同表示构成4至6原子构成的取代的或非取代的杂环的必需的原子。
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