[发明专利]光刻胶正胶组合物无效
| 申请号： | 99107757.1 | 申请日： | 1999-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN1237719A | 公开（公告）日： | 1999-12-08 |
| 发明（设计）人： | 上谷保则;森马洋;高田佳幸 | 申请（专利权）人： | 住友化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/022 | 分类号： | G03F7/022 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 严舫 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种具有优良分辨率以及良好的抗性性能，例如，灵敏度，聚焦深度和截面图形的光刻胶正胶组合物，它含有一种酚醛清漆树脂，一种辐射敏感性醌重氮化合物和一种由下述式(Ⅰ)表示的噻吨酮化合物其中，R1，R2R3，R4，R5，R6，R7和R8独立地表示氢，卤素，烷基，烷氧基，芳基，羧基或烷氧基羰基。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 胶正胶 组合 | ||
【主权项】：
1．一种光刻胶正胶组合物，它含有一种酚醛清漆树脂，一种辐射敏感性醌重氮化合物和一种由下述式(Ⅰ)表示的噻吨酮化合物：其中，R1,R2,R3,R4,R5,R6,R7和R8独立地表示氢，卤素，烷基，烷氧基，芳基，羧基或烷氧基羰基。
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