[发明专利]晶片抛光设备及晶片抛光用衬垫

摘要

一种晶片抛光设备包括旋转支撑的抛光台、抛光垫、承载头和衬垫。抛光垫固定于抛光台上。承载头设置成与抛光台相对，并支撑成可相对于抛光台旋转和前后移动。衬垫固定于承载头的表面上，与抛光垫相对，用于协同压缩空气使晶片紧贴抛光垫。衬垫由具有封闭微孔用于紧贴晶片的外围部分的环形第一泡沫体和具有开放微孔且设置于第一泡沫体内的柱形第二泡沫体构成。

主权项

1．一种晶片抛光设备，其特征在于，包括：旋转支撑抛光台(102)；固定于所说抛光台上的抛光垫(107,108)；设置成与所说抛光台相对并支撑为可相对于所说抛光台旋转且前后移动的承载头(103)；固定于所说承载头表面上的衬垫(115)，其与所说抛光垫相对，用于协同压缩空气使晶片紧贴所说抛光垫；所说衬垫由具有封闭微孔用于紧贴晶片的外围部分的环形第一泡沫体(152)和具有开放微孔且设置于所说第一泡沫体内的柱形第二泡沫体(151)构成。