[发明专利]环氧化二烯嵌段共聚物的羟基官能化衍生物及其制备方法无效
申请号: | 99108492.6 | 申请日: | 1993-04-01 |
公开(公告)号: | CN1244542A | 公开(公告)日: | 2000-02-16 |
发明(设计)人: | R·C·贝宁;J·R·埃里克森;D·J·斯特克莱尔;C·J·吉布勒;J·J·弗洛里斯;C·J·思塔克 | 申请(专利权)人: | 国际壳牌研究有限公司 |
主分类号: | C08F299/00 | 分类号: | C08F299/00;C09D153/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 唐伟杰 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种生产在二烯嵌段中含有羟基的共轭二烯的聚合物。一种含有0.1~15毫克当量羟基/克聚合物的共轭二烯嵌段共聚物,该聚合物包含上式的羟基,式中各基团的定义详见说明书。 | ||
搜索关键词: | 氧化 二烯嵌段 共聚物 羟基 官能 衍生物 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种聚合物含有0.1~15毫克当量/克羟基的共轭二烯嵌段共聚物,该聚合物含有下式的羟基或其中P为-OH、-Cl或-OR,R选自含有≤10个碳原子的烷基、一元和二元醇基和碳酸酯基;Q为-OH或Cl,条件是P和Q中至少一个为-OH;R1和R2为氢或烷基,条件是如果X为-OR,R1和R2中只有一个可为氢。
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