[发明专利]烷氧基N－羟基烷基链酰胺作为抗蚀剂脱除剂的用途无效
| 申请号： | 99111965.7 | 申请日： | 1999-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN1243971A | 公开（公告）日： | 2000-02-09 |
| 发明（设计）人： | 朴东镇;黄震虎;吉俊仍;朴济应;全相文 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 孙爱 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抗蚀剂脱除剂和一种脱除抗蚀剂的组合物,其具有优异的抗蚀剂和聚合物脱除性能,其不会对底层产生侵蚀,本发明还公开了所述抗蚀剂脱除剂和脱除抗蚀剂的组合物的制备方法和采用所述抗蚀剂脱除剂和脱除抗蚀剂的组合物脱除抗蚀剂的方法。所述抗蚀剂脱除剂包含烷氧基N－羟基烷基链酰胺。所述抗蚀剂脱除组合物,包含烷氧基N－羟基烷基链烷酰胺和至少一种偶极矩为3或大于3的极性材料和一种侵蚀抑制剂以及一种链烷醇胺。在其上具有抗蚀剂的基质与所述的抗蚀剂脱除剂或抗蚀剂脱除组合物可脱除抗蚀剂。 | ||
| 搜索关键词： | 烷氧基 羟基 烷基 链酰胺 作为 抗蚀剂 脱除 用途 | ||
【主权项】：
1、一种抗蚀剂脱除剂，其包含烷氧基N-羟基烷基链酰胺。
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