[发明专利]可形成均匀蚀刻液膜的装置无效
申请号: | 99118488.2 | 申请日: | 1999-09-03 |
公开(公告)号: | CN1287470A | 公开(公告)日: | 2001-03-14 |
发明(设计)人: | 范智朋 | 申请(专利权)人: | 欣兴电子股份有限公司 |
主分类号: | H05K3/06 | 分类号: | H05K3/06;B05B13/02 |
代理公司: | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种可形成均匀蚀刻液膜的装置,其配置于滚轮片式滚轮上,此滚轮片式滚轮支撑一双面板,滚轮下方放置多个第一蚀刻液喷嘴。此装置包括多个实心滚轮、数排第二蚀刻液喷嘴与数排喷气嘴。实心滚轮位于滚轮片式滚轮上方的同一平面上且彼此平行,相邻的实心滚轮间具有第一间隔与第二间隔,实心滚轮接触双面板,使得双面板上的蚀刻液膜可覆盖均匀。第二蚀刻液喷嘴配置于第一间隔的上方。喷气嘴配置于第二间隔上方。 | ||
搜索关键词: | 形成 均匀 蚀刻 装置 | ||
【主权项】:
1.一种可形成均匀蚀刻液膜的装置,配置于多个滚轮片式滚轮上,这些滚轮片式滚轮位于同一平面而彼此平行并适于支撑一双面板,且该些滚轮片式滚轮下方放置有多个第一蚀刻液喷嘴,该装置包括:多个实心滚轮,位于该些滚轮片式滚轮上方的同一平面上而彼此平行,且每二相邻的该些实心滚轮间具有一间隔,该些间隔又区分为多个第一间隔与多个第二间隔,该些实心滚轮适于接触该双面板,使得该双面板上的一蚀刻液膜覆盖均匀;多排第二蚀刻液喷嘴,配置于该些第一间隔的上方,且与该些实心滚轮的轴向平行;以及多排喷气嘴,配置于该些第二间隔上方,且与该些实心滚轮的轴向平行。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于欣兴电子股份有限公司,未经欣兴电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/99118488.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:蜂蜜萝卜条食品的制作方法
- 下一篇:水上雪撬健身器