[发明专利]光盘和使用该光盘的光盘设备无效

专利信息
申请号: 99119710.0 申请日: 1999-07-15
公开(公告)号: CN1246701A 公开(公告)日: 2000-03-08
发明(设计)人: 高峰浩一;山田真一;石田隆;中村敦史;西胁青儿 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: G11B7/007 分类号: G11B7/007;G11B7/09
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 韩宏
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种光盘,包括迹道和沟槽,沟槽以等于或大于约λ/NA的间距形成,其中,在沿大体上垂直于迹道的两个方向之一的方向相对于迹道位移一预定量的位置设置第1凹坑阵列,以预定的间距形成第1凹坑阵列,此处,预定间距是所取在从约0到约λ/NA范围内值的沟槽间距的函数,其中,在下述位置设置第2凹坑阵列,所述位置是在沿大体上垂直于迹道的两个方向中的另一个方向相对于迹道以一预定量位移的位置。以预定间距形成第2凹坑阵列,此处,预定间距是取在从约0到约λ/NA范围内的值的沟槽间距的函数,其中,λ是发射在光盘上光束的波长;NA是透镜的数值孔径。
搜索关键词: 光盘 使用 设备
【主权项】:
1.一种包括迹道和沟槽光盘,沟槽以等于或大于约λ/NA的间距形成,其中,在沿大体上垂直于迹道的两个方向之一的方向上相对于迹道位移一预定量的位置处设置第1凹坑阵列,以预定的间距形成第1凹坑阵列,此处,预定间距是取值在从约0到约λ/NA范围内的沟槽间距的函数,其中,在下述位置处设置第2凹坑阵列,所述位置是在沿大体上垂直于迹道的两个方向中的另一个方向上相对于迹道以一预定量位移的位置,以预定间距形成第2凹坑阵列,此处,预定间距是取值在从约0到约λ/NA范围内的沟槽间距的函数,其中,λ是发射在光盘上光束的波长;NA是透镜的数值孔径。
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