[发明专利]超硬纳米多层薄膜及其制作工艺无效
| 申请号： | 99124104.5 | 申请日： | 1999-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN1117886C | 公开（公告）日： | 2003-08-13 |
| 发明（设计）人： | 李戈扬;许俊华;金燕苹;戴嘉维;顾明元 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/34;C04B41/50 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 | 代理人： | 王锡麟,马伟敏 |
| 地址： | 200030*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明在金属或陶瓷的基体上利用反应溅射沉积法制取NbN层和TaN层多层薄膜，根据使用求交替制取NbN层和TaN层。多层薄膜制取工艺为：首先将金属或陶瓷的基体表面作镜面抛光处理，利用反应溅射沉积法制取多层薄膜，交替制取NbN层和TaN层，各层厚度控制在1.5nm～9.0nm，且厚度比为1，交替沉积多层薄膜总厚度为1μm～3μm。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 多层 薄膜 及其 制作 工艺 | ||
【主权项】：
1、一种超硬纳米多层薄膜，其特征在于在金属或陶瓷的基体(1)上利用反应溅射沉积法制取NbN层(2)和TaN层(3)多层薄膜，根据使用要求交替制取NbN层(2)和TaN层(3)。
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