[发明专利]自由流动研磨孔抛光无效
| 申请号： | 99126912.8 | 申请日： | 1999-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN1261019A | 公开（公告）日： | 2000-07-26 |
| 发明（设计）人： | J·S·肖 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | B24C3/32 | 分类号： | B24C3/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张天安,黄力行 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 自由流动研磨孔抛光系统和改善多孔物品(18)空气流量和带孔物品有效组件冷却效率的方法。自由流动研磨孔抛光系统使研磨颗粒成分(12)与载体介质(14)混合,以便产生自由流动研磨颗粒载体介质混合物。该混合物被输送,通过物品(18)中由孔壁(22)确定的孔(20),以便改善空气流量和物品的有效冷却效率。由于研磨颗粒(12)具有质量和速度并且自由流动介质(14)对流动没有阻力,研磨颗粒(12)撞击孔壁(22)的高点,主要去除孔壁(22)的高部位。 | ||
| 搜索关键词： | 自由 流动 研磨 抛光 | ||
【主权项】：
1.抛光孔(20)的方法，该孔具有确定孔的壁(22)，该方法包括下列步骤：提供许多研磨颗粒(12)；使许多研磨颗粒(12)悬浮在自由流动介质(14)中，以便产生研磨颗粒流动介质混合物；和输送研磨颗粒流动介质混合物(12、14)通过孔(20)，以便抛光孔壁(22)。
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