[发明专利]电摄影光敏元件的生产方法无效
| 申请号： | 99127720.1 | 申请日： | 1999-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN1258023A | 公开（公告）日： | 2000-06-28 |
| 发明（设计）人： | 木村知裕;川守田阳一;铃木幸一;长坂秀昭;田中成人;兵主善彦 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03G5/10 | 分类号： | G03G5/10 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 刘金辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种电摄影光敏元件的生产方法,包括下列步骤a)和b)中至少一步和下列步骤c)和d);a)用酸和碱中的至少一种蚀刻铝基片;b)用含有5%体积或更多的球形磨料的磨料分散体磨蚀铝基片,以累计百分率计,50%的球形磨料直径是5μm至60μm;c)对已经步骤a)和b)中至少一步处理过的铝基片,用含钛盐或锆盐的酸性水溶液进行化学转化;和d)在已经化学转化的铝基片上形成光敏层。 | ||
| 搜索关键词： | 摄影 光敏 元件 生产 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电摄影光敏元件的生产方法，包括下列步骤a)和b)中至少一步和下列步骤c)和d)；a)用酸和碱中的至少一种蚀刻铝基片；b)用含有5％体积或更多的球形磨料的磨料分散体磨蚀铝基片，以累计百分率计，50％的球形磨料直径从5μm至60μm；c)对已经步骤a)和b)中至少一步处理过的铝基片，用含钛盐或锆盐的酸性水溶液进行化学转化；和d)在已经化学转化的铝基片上形成光敏层。
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