[实用新型]使用近红外线光光谱仪改进含浸制程的控制无效

专利信息
申请号: 99201623.1 申请日: 1999-01-20
公开(公告)号: CN2383064Y 公开(公告)日: 2000-06-14
发明(设计)人: 沈弘章 申请(专利权)人: 科荣股份有限公司
主分类号: G01N21/35 分类号: G01N21/35
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 李亚非,陈景峻
地址: 台湾省*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 实用新型涉及铜箔基板制造中产品的胶化时间,胶含量及原料凡立水的胶化时间、环氧官能基含量等检测方法的改善。它利用一近红外光光谱仪探测最终产品,使得可分析的胶化时间或胶含量动态范围不受限制。而定量分析方法中使用波数4080—5200cm-1的光谱范围,并以PLS方法分析制作检量线定量。可补偿所分析的光谱吸收峰受邻近吸收峰的影响而使误差降低,同时检量线维护的困难也得以改善。
搜索关键词: 使用 红外线 光谱仪 改进 含浸制程 控制
【主权项】:
1.一种使用近红外线光光谱仪改进含浸制程的控制装置,涉及在铜箔基板制造过程中,产品的胶化时间(geltime、胶含量(resinconstent)以及原料凡立水的胶化时间、环氧官能基含量等的检测,其特征在于,使用一部富氏转换近红外光光谱仪(FT-NIR),其发射器和接收器可接设有多组光纤穿透式量测组件,可产生一光纤光束,可分别检测含浸后的最终产品(Prepreg)的多个特定位置,其检测顺序由电子计算机所控制,结果亦分别计算及储存;其中一组光纤用途为取背景、维护、修改及制作检量线;另含有一样品检测槽可量测以一般玻璃容器盛装的进料样品;近红外光光谱仪检测器所检测的光谱为连续光谱,波数范围由3900~9000cm-1(样品槽的光谱波数范围3500~9000cm-1),取4080~5200cm-1作为检量线制作的分析范围,此波数范围包含了甲基、环氧基及其它官基能,在含浸制程的变化过程中,此等官能基在光谱中的吸收峰形成消长的情形,并以化学统计学PLS(PartialLeastSquare)分析计算比较检量线结果可得知胶化时间及胶含量的改变值。
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