[实用新型]高氧低温式颅脑损伤治疗装置无效
| 申请号： | 99247423.X | 申请日： | 1999-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN2404511Y | 公开（公告）日： | 2000-11-08 |
| 发明（设计）人： | 王成祥;王勇 | 申请（专利权）人： | 王成祥 |
| 主分类号： | A61G10/00 | 分类号： | A61G10/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 250014 山东省济南*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种高氧低温式颅脑损伤治疗装置,它有颅脑罩,颅脑罩扣合在底板上,颅脑罩上分别设置有与其内腔相通的进氧口、进冷口、阀门,颅脑罩上设置有开口。它与现有的氧气、冷气源相接后,能够在本实用新型内形成一个可以随意调节的高氧、低温环境,患者的头部在此环境内,能够对其进行均匀供氧、降温,它操作简便、治疗费用较低。 | ||
| 搜索关键词： | 低温 颅脑 损伤 治疗 装置 | ||
【主权项】：
1、高氧低温式颅脑损伤治疗装置，它有颅脑罩(2)，其特征在于：颅脑罩(2)扣合在底板(12)上，颅脑罩(2)上分别设置有与其内腔相通的进氧口(3)、进冷口(1)、阀门(5)，颅脑罩(2)上设置有开口(8)。
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