[发明专利]具备压力式流量控制装置的气体供给设备

摘要

使半导体制造装置等所使用的具备压力式流量控制装置的气体供给设备更小型化而降低制造成本,同时改善过度流量特性,防止气体供给开始时的气体的过调节现象的发生,提高流量控制精度与设备可靠性,由此,减少半导体制品质量的不均一,同时提高半导体制品的制造效率。具体地讲,是在将节流孔的上游侧压力保持成为节流孔的下游侧压力的约2倍以上的状态下,一边进行气体的流量控制,一边通过节流孔对应阀向加工过程供给气体,在上述具备压力式流量控制装置的气体供给设备上,气体供给设备的构成包括从气体供给源接受气体的控制阀,设置在控制阀下游侧的节流孔对应阀,设置于前述控制阀与节流孔对应阀之间的压力检测器,设置于节流孔对应阀的阀动机构部下游侧的节流孔,在根据前述压力检测器的检测压力P1将流量作为Qc=KP1(式中K为常数)进行运算、同时将流量指令信号Qs与运算流量Qc的差作为控制信号Qy向控制阀的驱动部输出的运算控制装置。

主权项

1.一种具有压力式流量控制装置的气体供给设备，该压力式流量控制装置是在将节流孔上游侧压力保持成为节流孔下游侧压力的约2倍以上的状态下，一边进行气体的流量控制，一边通过节流孔对应阀向加工过程供给气体，其特征在于，气体供给设备的构成包括：从气体供给源接受气体的控制阀，设置在控制阀下游侧的节流孔对应阀，设置于前述控制阀与节流孔对应阀之间的压力检测器，设置于节流孔对应阀的阀动机构部下游侧的节流孔，在根据前述压力检测器的检测压力P1将流量作为Qc＝KP1(式中K为常数)进行运算、同时将流量指令信号Qs与运算流量Qc的差作为控制信号Qy向控制阀的驱动部输出的运算控制装置，通过对控制阀的开闭进行控制来调节压力P1，由此控制供给气体流量。