[发明专利]光敏黑色基体组合物及其制法无效

专利信息
申请号: 99801142.8 申请日: 1999-07-14
公开(公告)号: CN1274432A 公开(公告)日: 2000-11-22
发明(设计)人: R·W·萨伯尼斯;J·W·梅奥;T·L·布鲁尔;M·D·斯特罗德;江间希代巳;曾根靖久;仁平贵康;青叶和广;柳本晄 申请(专利权)人: 伯韦尔科学公司;日产化学工业株式会社
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/027;G02B5/20
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 陈季壮
地址: 美国密*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 含可溶于碱的聚合物、光可聚合的多官能团(甲基)丙烯酸酯或它们的混合物、阻光用的涂有二氧化硅的金属氧化物颜料、三烷氧基有机硅烷偶合剂、光引发剂、使组合物可以旋涂的足量溶剂以及可溶于溶剂中的低于3%重量的染料。得到的组合物在形成用于显示板如平板显示器的黑色基体是有用的。由混合各成分构成的生成组合物的方法也受到权利保护。
搜索关键词: 光敏 黑色 基体 组合 及其 制法
【主权项】:
1.一种光敏黑色基体组合物,它是在溶液中配制成含20-50%重量的总固体,其体积电阻率大于108欧姆-厘米,膜厚1微米或更低的光密度大于3.0,该组合物包括:a.粘合剂体系,其组成为:1)可溶于碱的聚合物基料和2)可光聚合的多官能团的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯共聚单体或共聚单体的混合物,共聚单体的每个分子中有一个或多个烯属不饱和双键;b.有效粒径的涂有二氧化硅的颜料;c.三烷氧基有机硅烷偶合剂或它们的混合物;d.能够有效地操作在低于400毫微米波长下的能产生自由基的光引发剂或光引发剂体系;e.适于在玻璃和半导体底材上旋涂的具有干燥特性的溶剂;以及f.占干燥染料固体重量低于3%重量的溶剂可溶的染料,其中组合物与具有高光密度和低导电性的其它光成象的有机黑色基体相比储存寿命具有明显的改进。
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