[发明专利]尤其用于磁或磁光记录的磁蚀刻方法有效
| 申请号： | 99802656.5 | 申请日： | 1999-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN1289442A | 公开（公告）日： | 2001-03-28 |
| 发明（设计）人： | C·查普特;H·伯纳斯;J·费雷 | 申请（专利权）人： | 国家科研中心 |
| 主分类号： | H01F41/14 | 分类号： | H01F41/14;G11B11/10;H01P11/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王杰 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种磁蚀刻方法,其特征在于包括对薄层材料进行可控辐射以便在微米数量级或更小宽度的区域上局部地改变所述材料的磁性特性,例如尤其是其矫顽磁性、磁性各向异性或其居里温度。 | ||
| 搜索关键词： | 尤其 用于 记录 蚀刻 方法 | ||
【主权项】：
1．磁蚀刻方法，其特征在于，薄层材料是被可控地进行辐射以便在微米数量级或更小的宽度区域上局部地改变所述材料的磁性特性，例如尤其是其矫顽磁性、其磁性各向异性或其居里温度。
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