[发明专利]直接写入成像介质无效
| 申请号： | 99802984.X | 申请日： | 1999-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN1291135A | 公开（公告）日： | 2001-04-11 |
| 发明（设计）人： | N·斯威特 | 申请（专利权）人： | 精密涂层公司 |
| 主分类号： | B32B9/04 | 分类号： | B32B9/04;G03C1/52 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 吴亦华 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种直接写入成像膜(100),包括放置于基材(110)之上的第一层(112)和所述第一层(112)之上的第二层(116)。所述第一层(112)能够被第一波长光所分散或破坏,这样可降低所述第二层(116)与该膜(100)剩余部分的粘附性。所述第二层(116)对短于所述第一波长的第二波长光吸收较强。在使用该膜(100)时,使用第一波长光破坏所述第一层(112)的所选部分;然后去除第二层(116)的覆盖部分,得到一种强烈吸收第二波长且由第二层(116)剩余部分确定的图像。 | ||
| 搜索关键词： | 直接 写入 成像 介质 | ||
【主权项】：
1．一种直接写入成像膜，包括：基材；放置于所述基材之上的第一材料第一层；和放置于所述第一层之上的第二材料第二层；其中所述第一层对第一波长光比对第二波长光的吸光率要高，所述第二波长光比所述第一波长光要短；所述第二层对所述第一波长光的吸光率低于所述第一层，而对所述第二波长光的吸光率高于所述第一层；且其中所述第一层的材料能够被所述第一波长光破坏。
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