[发明专利]用于铜/钽基材的化学机械抛光浆料有效
| 申请号： | 99809560.5 | 申请日： | 1999-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN1158373C | 公开（公告）日： | 2004-07-21 |
| 发明（设计）人： | 弗拉斯塔·B·考夫曼;罗德尼·C·基斯特勒;王淑敏 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09G1/02;H01L21/321 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 宋莉 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 公开了一种包括：磨料、氧化剂、配合剂、成膜剂和有机氨化合物的第一种化学机械抛光浆料；和包括磨料、氧化剂和乙酸且其中氧化剂与乙酸的比例至少为10的第二种抛光浆料，还公开了用第一种和第二种抛光浆料顺序抛光含铜和含钽或氮化钽或钽和氮化钽两种的基材的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基材 化学 机械抛光 浆料 | ||
【主权项】：
1.一种用于选择性地抛光含铜及钽、氮化钽或其混合物基材中的铜的化学机械抛光浆料前体，包括：至少一种磨料；至少一种选自长链烷基胺、醇胺及其混合物的有机氨化合物；和至少一种配合剂，其中该浆料具有4.0至8.0的pH；其中该配合剂选自乙酸、柠檬酸、乳酸、丙二酸、酒石酸、琥珀酸、乙二酸、氨基酸、其盐、和其混合物。
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