[发明专利]具有改善的抗干扰性的磁致电阻存储器有效

专利信息
申请号: 99810892.8 申请日: 1999-09-29
公开(公告)号: CN1318198A 公开(公告)日: 2001-10-17
发明(设计)人: W·维贝尔;R·特维斯;G·普拉萨 申请(专利权)人: 因芬尼昂技术股份公司
主分类号: G11C11/16 分类号: G11C11/16
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 马铁良,张志醒
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请对象涉及磁致电阻存储器,其中,在较小的芯片面积情况下,通过以下方式改善了抗干扰性,即在两个互补位线之间存在垂直的字线,在位线和字线之间存在一正规的单元的、磁致电阻存储器系,在互补的位线和字线之间存在互补的存储单元从属的磁致电阻存储器系。
搜索关键词: 具有 改善 抗干扰 致电 存储器
【主权项】:
1.磁致电阻存储器,其中,上下垂直重叠地存在用于第1位线(BL)的层,第1存储单元(Z)的磁致电阻层系(MRS),用于字线(WL)的层,第2存储单元(Z)的磁致电阻层系和用于另一位线(BL)的层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于因芬尼昂技术股份公司,未经因芬尼昂技术股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/99810892.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top