[发明专利]微石印用光致抗蚀剂、聚合物和工艺有效
| 申请号： | 99811306.9 | 申请日： | 1999-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN1319199A | 公开（公告）日： | 2001-10-24 |
| 发明（设计）人： | A·E·菲林;J·菲尔德曼 | 申请（专利权）人： | 纳幕尔杜邦公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004;C08F232/00;C08F214/18;C08F220/18;C08F216/14 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘元金,邰红 |
| 地址： | 美国特拉华*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了极端紫外区、远紫外区、和近紫外区微石印术用光致抗蚀剂和相关工艺。在一些实施方案中,该光致抗蚀剂包含(a)一种含氟共聚物,其中包含从至少一种烯键不饱和化合物衍生的重复单元,其特性在于至少一种烯键不饱和化合物是多环的且至少一种烯键不饱和化合物含有至少一个与烯键不饱和碳原子共价连接的氟原子;和(b)至少一种光敏成分。在另一些实施方案中,该光致抗蚀剂包含一种含氟共聚物,其中包含一种从至少一种多环烯键不饱和化合物衍生的重复单元,其至少一个原子或基团选自氟原子、全氟烷基、和全氟烷氧基组成的一组,其特征在于至少一个原子或基团共价地连接到一个碳原子上,该碳原子包含在一个环结构内而且与该烯键不饱和化合物的每个烯键不饱和碳原子间隔至少一个共价连接的碳原子。该光致抗蚀剂在极端/远紫外区以及近紫外区有高透明度,高等离子体刻蚀抗性,可用于极端、远、和近紫外(UV)区、尤其≤365nm波长的微石印术。也公开了新型含氟共聚物。 | ||
| 搜索关键词： | 石印 用光 致抗蚀剂 聚合物 工艺 | ||
【主权项】：
1．一种光致抗蚀剂，包含(a)一种含氟共聚物，其中包含一种从至少一种烯键不饱和化合物衍生的重复单元，其特征在于至少一种烯键不饱和化合物是多环的，且至少一种烯键不饱和化合物含有至少一个与烯键不饱和碳原子共价连接的氟原子；和(b)至少一种光敏成分；其中，该含氟共聚物不含有芳香族官能度，但含有足以使该光致抗蚀剂可显影的官能度，从而在对波长＜365nm的紫外辐射成像曝光时能产生凸起影像。
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