[发明专利]在基片上沉积导电层的方法无效
| 申请号： | 99813805.3 | 申请日： | 1999-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN1335045A | 公开（公告）日： | 2002-02-06 |
| 发明（设计）人： | 达雷恩·洛春;戴维·哈里森;布卢·约翰·拉姆齐 | 申请（专利权）人： | RT微波有限公司 |
| 主分类号： | H05K1/09 | 分类号： | H05K1/09 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 严舫 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种在基片上形成导电层的方法,包括如下步骤通过平板印刷述的印刷方法在基片上沉积油墨而形成晶种层,并通过无电沉积法在晶种层上沉积第一导电层。 | ||
| 搜索关键词： | 基片上 沉积 导电 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在基片上形成导电层的方法，包括以下步骤：通过平板印刷方法将油墨沉积在基片上以形成晶种层，和通过无电沉积法将第一导电层沉积在晶种层上。
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