[发明专利]薄膜磁头的制造方法及其制造装置

权利要求书

1.一种薄膜磁头用制造方法，它是一种在基板上形成包含有由诸如绝缘层、磁性层、导电层等薄膜层叠层构成的磁性阻抗效应元件的薄膜磁性元件，而且一边对所述磁性阻抗效应元件的电阻值实施测定，一边对所述基板和所述磁性阻抗效应元件沿着高度方向实施研磨加工，从而对磁阻体高度值实施调整的制造方法，其特征在于，

在加工时间超过预定时间，且所述电阻值或由该电阻值换算出的磁阻体高度值进入至与精加工制成品值相关的公差范围内之前，持续进行研磨加工。

2.一种薄膜磁头用制造方法，它是一种在基板上形成包含有由诸如绝缘层、磁性层、导电层等薄膜层叠层构成的磁性阻抗效应元件的薄膜磁性元件，而且一边对所述磁性阻抗效应元件的电阻值实施测定，一边对所述基板和所述磁性阻抗效应元件沿着高度方向实施研磨加工，从而对磁阻体高度值实施调整的制造方法，其特征在于，

当所述的电阻值或由该电阻值换算出的磁阻体高度值位于基准值之下时，将研磨加工用的研磨装置中研磨平台的转数至少一次切换至低速转数，进而结束加工。

3.一种薄膜磁头用制造方法，它是一种在基板上形成包含有由诸如绝缘层、磁性层、导电层等薄膜层叠层构成的磁性阻抗效应元件的薄膜磁性元件，而且一边对所述磁性阻抗效应元件的电阻值实施测定，一边对所述基板和所述磁性阻抗效应元件沿着高度方向实施研磨加工，从而对磁阻体高度值实施调整的制造方法，其特征在于，

在所述的电阻值或由该电阻值换算出的磁阻体高度值位于基准值之下时，将研磨加工用的研磨装置中研磨平台的转数至少一次切换至低速转数，

而且在加工时间超过预定时间，且所述电阻值或由该电阻值换算出的磁阻体高度值进入至与精加工制成品值相关的公差范围内之前，持续进行所述的研磨加工。

4.一种如权利要求3所述的薄膜磁头用制造方法，其特征在于研磨加工作业由粗加工和精加工两个研磨加工阶段构成，所述的预定时间为由所述精加工开始之后的加工时间。

5.一种如权利要求4所述的薄膜磁头用制造方法，其特征在于所述的预定时间设定在两分钟以上。

6.一种如权利要求4所述的薄膜磁头用制造方法，其特征在于在加工结束之后，对由所述薄膜磁性元件至所述基板上的记录媒体相对面之间的差量(凹退量)实施测定，并且按照对这一差量、磁性阻抗效应元件的磁阻体高度值或电阻值实施适当修正的方式，对随后加工用的加工条件实施变更，

所述的加工条件为实施粗加工时的磁阻体高度值，

若干个不同的所述加工条件以图表形式储存在储存装置中，并且由该图表之中选择加工条件，

而且所述的加工条件按照加工等级划分，并呈图表形式储存在储存装置中，进而通过选择加工等级的方式由图表中选择出加工条件。

7.一种如权利要求4所述的薄膜磁头用制造方法，其特征在于在加工结束之后，对由所述薄膜磁性元件至所述基板上的记录媒体相对面之间的差量(凹退量)实施测定，并且按照对这一差量、磁性阻抗效应元件的磁阻体高度值或电阻值实施适当修正的方式，对随后加工用的加工条件实施变更，

所述的加工条件为实施精加工时的润滑油供给时间，

若干个不同的所述加工条件以图表形式储存在储存装置中，并且由该图表之中选择加工条件，

而且所述的加工条件按照加工等级划分，并呈图表形式储存在储存装置中，进而通过选择加工等级的方式由图表中选择出加工条件。

8.一种如权利要求4所述的薄膜磁头用制造方法，其特征在于在对精加工开始至精加工结束之间的时间实施测定，进而按照使该加工时间位于预定值之内的方式，对随后加工用的加工条件实施变更，

所述的加工条件为实施粗加工时的磁阻体高度值，

若干个不同的所述加工条件以图表形式储存在储存装置中，并且由该图表之中选择加工条件，

而且所述的加工条件按照加工等级划分，并呈图表形式储存在储存装置中，进而通过选择加工等级的方式由图表中选择出加工条件。