[发明专利]一种基因芯片荧光标记物的洗涤方法及其专用洗脱液无效
| 申请号： | 00114997.0 | 申请日： | 2000-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN1314494A | 公开（公告）日： | 2001-09-26 |
| 发明（设计）人： | 毛裕民;谢毅;李瑶 | 申请（专利权）人： | 上海博德基因开发有限公司 |
| 主分类号： | C12Q1/68 | 分类号： | C12Q1/68 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200092 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基因芯片 荧光 标记 洗涤 方法 及其 专用 洗脱 | ||
【权利要求书】：
1、一种基因芯片杂交后荧光标记物Cy3、Cy5的洗涤方法，其特征在于，(1)将洗脱温度提高到50-60℃；(2)选择聚氧乙烯山犁醇酐单月桂酸脂作为洗脱液。对杂交后玻片的具体操作过程如下：
①1×SSC+0.2％SDS于50℃-60℃浸洗10-15分钟左右.②1×SSC+(0.1％-2％)Tween20于50℃-60℃浸洗10-15分钟左右.③0.1×SSC+0.2％SDS于室温浸洗10-15分钟左右.④ddH2O于室温浸洗2-4分钟左右.⑤晾干，扫描。
2、如权利要求1所述的荧光标记物Cy3、Cy5的洗涤方法，其最适条件为：将杂交后玻片在①1×SSC+0.2％SDS于60℃浸洗10分钟，再②1×SSC+0.2％Tween20于60℃浸洗10分钟，再③0.1×SSC+0.2％SDS于室温浸洗10分钟，再④ddH2O于室温浸洗3分钟，最后⑤晾干，扫描。
3、一种专用于权利要求1或2所述方法的洗脱液，其特征是在现有的洗脱液中加入0.1％-2％聚氧乙烯山犁醇酐单月桂酸脂。
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