[发明专利]光记录媒体的制造方法和制造装置无效

专利信息
申请号: 00122554.5 申请日: 2000-08-03
公开(公告)号: CN1282954A 公开(公告)日: 2001-02-07
发明(设计)人: 增原慎;安芸祐一;山本健二 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: G11B7/00 分类号: G11B7/00;G11B7/26;G11B7/135
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 李家麟
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 记录 媒体 制造 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种光记录媒体的制造方法,通过用照射激光束对目标扫描而在特定的曝光目标上制造包含细小凹凸不平的潜象,其特征在于,

半导体激光器通过物镜把所述激光束辐射到曝光目标;以及

安装色差补偿光学系统,至少补偿所述照射激光束在所述物镜中的色差。

2.如权利要求2所述的光记录媒体的制造方法,其中,所述物镜是无限补偿型光学系统,其特征在于,

光束展宽器展宽所述照射激光束的直径并把所述照射激光束辐射到所述物镜上;以及

安装所述色差补偿光学系统使之离所述半导体激光器比所述光束扩展器近。

3.如权利要求1所述的光记录媒体的制造方法,其中,所述物镜是有限补偿型光学系统,其特征在于,

通过特定的透镜把所述照射激光束转换成散射光并照射到所述物镜上;以及

安装所述色差补偿光学系统使之离所述半导体激光器比所述光束扩展器近。

4.一种光记录媒体的制造装置,通过用照射激光束对目标扫描而在特定的曝光目标上制造包含细小凹凸不平的潜象,其特征在于,它包括:

半导体激光器,用于辐射所述照射激光束;

物镜,用于使所述照射激光束聚焦并使其辐射到所述曝光目标上;以及

色差补偿光学系统,用于至少补偿所述照射激光束在所述物镜中的色差。

5.如权利要求4所述的光记录媒体的制造装置,其中,所述物镜是无限补偿型光学系统,其特征在于,

光束展宽器展宽所述照射激光束的直径并辐射所述照射激光束;以及

安装所述色差补偿光学系统使之离所述半导体激光器比所述光束扩展器近。

6.如权利要求4所述的光记录媒体的制造装置,其中,所述物镜是有限补偿型光学系统,其特征在于,

通过特定的透镜把所述照射激光束转换成散射光并辐射;以及

安装所述色差补偿光学系统使之离所述半导体激光器比所述透镜近。

7.一种光记录媒体的制造方法,通过用照射激光束扫描而形成细小凹凸不平的潜象,其特征在于,

辐射所述照射激光束的激光光源是半导体激光器;以及

当所述照射激光束的波长小于500nm时,通过特定的温度调节机构使激光光源附近的温度变化保持在±1℃之内。

8.一种光记录媒体的制造装置,通过用照射激光束扫描而形成细小凹凸不平的潜象,其特征在于,它包括:

半导体激光器,用于辐射波长小于500nm的所述照射激光束;以及

特定的温度调节机构,用于使所述半导体激光器附近的温度变化保持在±1℃之内。

9.一种光记录媒体的制造方法,通过用照射激光束扫描而形成细小凹凸不平的潜象,其特征在于,

半导体激光器辐射所述照射激光束;以及

控制半导体激光器的温度,以致照射激光束的波长是固定的波长。

10.一种光记录媒体的制造装置,通过用照射激光束扫描而形成细小凹凸不平的潜象,其特征在于,它包括:

半导体激光器,用于辐射所述照射激光束;

波长检测装置,用于检测所述照射激光束的波长并输出所述波长检测结果;

温度调节器装置,用于根据所述波长检测结果来控制所述半导体激光器的温度。

11.如权利要求10所述的光记录媒体的制造装置,其特征在于,所述波长检测装置包括:衍射光栅,用于使所述照射半导体激光束衍射而辐射衍射光;光学接收装置,用于检测所述衍射光的衍射角并输出所述波长检测结果。

12.如权利要求10所述的光记录媒体的制造装置,其特征在于,所述光学接收装置是安装在指定位置的位置检测元件,用于检测通过聚焦装置聚焦在所述光接收表面上的所述衍射光的聚焦位置。

13.一种光记录媒体的制造方法,通过用照射激光束扫描指定的曝光目标而形成细小凹凸不平的潜象,其特征在于,

所述半导体激光器辐射所述照射激光束,而且所述激光束从所述物镜照射所述曝光目标,以及把从半导体激光器到物镜的光学系统安装在一个密封的空间中。

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