[发明专利]磁光记录媒体及其制造方法无效
申请号: | 00126288.2 | 申请日: | 2000-07-07 |
公开(公告)号: | CN1282958A | 公开(公告)日: | 2001-02-07 |
发明(设计)人: | 佐飞裕一;川瀨公崇 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/26;G11B11/105 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 李德山 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 记录 媒体 及其 制造 方法 | ||
1一种磁光记录媒体,是用于通过聚焦微光点(microspot)直径的光来记录和再现信息,包括:
光入射到其第一表面的第一光传输介质层;
形成在相对着第一介质层第一表面之第二表面上的磁光记录层;
形成在磁光记录层上的光传输金属层,其具有从磁光记录层散失热所要求的预定厚度和具有比磁光记录层更大的热导率;
形成在光传输金属层上的第二光传输介质层;和
形成在第二介质层上和反射光的金属反射层。
2根据权利要求1的磁光记录媒体,其中:微光点直径的光是来自(波长)/(透镜数值孔径(NA))的比率不超过大约1000nm的光学系统的光。
3根据权利要求1的磁光记录媒体,其中:光传输金属层的预定厚度不小于大约10nm。
4根据权利要求1的磁光记录媒体,其中:光传输金属层厚度的上限设定在这样的范围内,在这里来自第一表面侧的射到光传输金属层的至少一部分光穿过光传输金属层射到第二介质层。
5根据权利要求4的磁光记录媒体,其中:光传输金属层厚度的上限是大约60nm。
6根据权利要求2的磁光记录媒体,其中:光传输金属层是由相对于光具有大的反射率的金属构成。
7根据权利要求6的磁光记录媒体,其中:光传输金属层包含Al。
8根据权利要求6的磁光记录媒体,其中:光传输金属层包含Ag。
9根据权利要求1的磁光记录媒体,还包括在第一介质层第一表面上的衬底。
10根据权利要求1的磁光记录煤体,还包括在光入射侧相反一侧的金属反射层表面上的衬底。
11一种生产磁光记录媒体的方法,用于通过聚焦短波长的光或大的NA来记录和再现信息,所述方法包括步骤:
在与光射入侧相反一侧的光传输衬底的表面上形成光传输第一介质层;
在第一介质层上形成磁光记录层;
在磁光记录层上形成光传输金属层,其具有从磁光记录层热散失所要求的预定厚度和大于磁光记录层的热导率;
在光传输金属层上形成光传输第二介质层;和
在第二介质层上形成反射光的金属反射层。
12根据权利要求11的方法,其中形成第一介质层,磁光记录层,光传输金属层,第二介质层和金属反射层的步骤包括通过溅射形成各层。
13根据权利要求12的方法,其中溅射步骤是在相同的装置上进行的。
14根据权利要求11的方法,还包括步骤:在形成光传输金属层的步骤之后平滑光传输金属层表面的步骤。
15根据权利要求14的方法,其中平滑光传输金属层表面的步骤包括反向溅射的步骤。
16根据权利要求15的方法,其中形成第一介质层,磁光记录层,光传输金属层,第二介质层和金属反射层包括通过溅射形成各层,以及
反向溅射是在与溅射步骤相同的装置上进行。
17一种生产磁光记录媒体的方法,用于通过聚焦短波长的光或大的NA来记录和再现信息,所述方法包括步骤:
形成在光聚焦侧衬底的表面上反射光的金属反射层;
在金属反射层上形成光传输第二介质层;
在第二介质层上形成光传输金属层,其具有从磁光记录层热散失所要求的预定厚度和大于磁光记录层的热导率;
在光传输金属层上形成磁光记录层;和
在磁光记录层上形成光传输第一介质层。
18根据权利要求17的方法,其中:形成金属反射层,第二介质层,光传输金属层,磁光记录层,和第一介质层的步骤包括通过溅射形成各层。
19根据权利要求18的方法,其中:溅射步骤是在相同的装置上进行的。
20根据权利要求17的方法,还包括步骤:在形成光传输金属层的步骤之后平滑光传输金属层表面的步骤。
21根据权利要求20的方法,其中:平滑光传输金属层表面的步骤包括反向溅射的步骤。
22根据权利要求21的方法,其中:形成第一介质层,磁光记录层,光传输金属层,第二介质层和金属反射层的步骤包括通过溅射形成各层,以及
反向溅射是在与溅射步骤相同的装置上进行。
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