[发明专利]磁光记录媒体及其制造方法无效

专利信息
申请号: 00126288.2 申请日: 2000-07-07
公开(公告)号: CN1282958A 公开(公告)日: 2001-02-07
发明(设计)人: 佐飞裕一;川瀨公崇 申请(专利权)人: 索尼株式会社
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;G11B7/26;G11B11/105
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李德山
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 记录 媒体 及其 制造 方法
【说明书】:

发明涉及用于具有不超过大约1000nm波长/透镜的数值孔径(NA)之光学系统的磁光记录媒体和其生产方法,特别涉及在不降低光学特性的情况下抑制温度升高和改善热特性的磁光记录媒体及其生产方法。

普通磁光记录媒体,例如磁光盘,是按图1的剖面图所示构成的,例如包括:光传输衬底1,其上连续地堆积有由厚度为80nm到100nmSiN构成的光传输第一介质层2,由例如TbFeCo构成的磁光记录层3,由例如厚度为20nm到40nmSiN构成的光传输第二介质层4,和由厚度为50nm到60nm Al构成的金属反射层5。在图1所示结构的磁光记录媒体中,光L从衬底1侧射入,光L主要在第二介质层4和金属反射层5之间的界面上反射。光L的反射光有检测器检测并被转换成电信号。

磁光记录层3通过将厚度设定为不超过30nm例如为15nm到25nm的厚度进行光的传输。由于克尔效应的增强效果能够通过使用在磁光记录层3和金属反射层5之间的多重干涉获得,因此磁光记录层3具有的优点是:反射率R能够随光学性能指数降低,即R·θK(R是反射率,θK是克尔旋转角)保持为常数。而且,如果适当地选择了磁光记录层3和金属反射层5的组合,防止磁光记录层3中温度的升高和设计成最理想热特性是可能的。

下面,详细地说明上述传统的磁光记录媒体的光学方面和热方面。

首先,说明上述磁光记录媒体的光学方面。如果当改变膜结构时光学性能指数固定,则信号和盘噪声幅值保持在常数水平,S/N不变。在磁光盘中,在高频区散粒噪声是主要的。而且,由于散粒噪声水平正比于检测信号之检测器上检测的光量的开平方,反射愈低,散粒噪声水平愈低。因此,能够在热特性和伺服特性允许的范围内设计使反射率愈低,则S/N尤其是高频特性的改进愈大。

反射率的降低能够通过在衬底上涂SiN介质层和厚磁光记录层实现。但是,在这种情况下,即使SiN介质层的厚度变化了,反射率将不会变得小于20%。为了进一步降低反射率,使磁光记录层的厚度不超过30nm和安排经过介质层的反射层的结构是有效的。特别是,当磁光记录层的厚度做成不超过20nm时,光的透过率增加。因此,通过使用在磁光记录层和反射层之间的多重干涉在宽范围内改变反射率就变为可能。作为反射层,通常使用主要由Al构成的高反射率的金属。

下面,说明上述磁光记录媒体的热方面。关于热方面,磁光记录层的热特性是通过适当选择金属反射层和第二介质层的厚度来控制的。

但是,根据具有上述膜结构的传统磁光记录媒体,充分控制该热特性是困难的。

随着近些年来磁光记录媒体增加的较高密度,光点尺寸已经在直径上做的较小,因此,当增加再现光的强度和重复再现信息时,有时要失去记录的痕迹和擦除在媒体上记录的信息。尤其是当使用短波长光源或者具有0.7以上NA的光学系统时,光吸收集中在磁光记录层的表面上。因此,包括磁光记录层的磁光记录媒体的温度在热到达金属反射层和散失之前就升高了。

通常在金属膜中,当减小其厚度时,热导率由于电子平均自由程的下降而降低。已经知道,当厚度大约为30nm或更小时,热导率将显著地下降。在由TbFeCo或其它金属层等构成的磁光记录层中,当为了保持光学特性如上述使磁光记录层的厚度做成大约为30nm或更小时,由于热导率的下降导致的温度升高变成了一个问题。

正如上述,在磁光记录媒体中,存在的问题是:实现保持光学性能指数和防止温度升高两者是困难的。

而且,当使用不超过49nm的短波长的光源和/或具有0.7以上NA的光学系统时,磁光记录层中温度的升高变得显著。因此,当第二介质层很薄地形成在例如大约10nm的厚度上时,来自磁光记录层的热散失就变得不充分。这样,产生的问题在于:磁光记录层的热控制变得不可能。

本发明考虑了上述问题。因此,本发明的目的是提供保持光学性能指数和改善热特性的磁光记录媒体以及其生产的方法。

为实现上述目的,本发明的磁光记录媒体是用于通过聚焦微光点直径的光来记录和再现信息的磁光记录媒体,特征在于包括:光射到其第一表面的第一光传输介质层;形成在相对着第一介质层第一表面之第二表面上的磁光记录层;形成在磁光记录层上的光传输金属层,其具有从磁光记录层散失热所要求的预定厚度和具有比磁光记录层更大的热导率;形成在光传输金属层上的第二光传输介质层;和形成在第二介质层上和反射光的金属反射层。

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