[发明专利]发光化合物半导体装置及其制造方法无效
申请号: | 00128644.7 | 申请日: | 2000-09-18 |
公开(公告)号: | CN1344035A | 公开(公告)日: | 2002-04-10 |
发明(设计)人: | 林明德 | 申请(专利权)人: | 连勇科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01S5/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 化合物 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
本发明涉及一种化合物半导体装置及其制造方法。本发明尤其关于一种发光化合物半导体装置,例如GaN型发光二极体(light-emitting diode,LED),其侧壁与底表面均由一涂覆性导电层所覆盖,以及此种发光化合物半导体装置的制造方法。
近年来,使用GaN型化合物半导体作为制造蓝光、绿光、或蓝绿光发光装置,例如蓝光LED或蓝光激光二极体(laser diode,LD)的材料已愈来愈受到注意。举例而言,蓝光LED通常具有下列结构:包含至少一n型GaN型化合物半导体层、一有源层,由本征或有掺杂的GaN型化合物半导体材料所形成、以及至少一p型GaN型化合物半导体层,其依次叠制于一基板上。
在制造现有的蓝光LED时,经常使用透明的蓝宝石作为形成蓝光LED的基板的材料。不同于其他半导体发光装置所用的半导体基板,蓝宝石为一电绝缘材料。因而,不可能直接形成n型电极于蓝宝石基板上。解决此问题的方法为:藉由蚀刻蓝光LED使n型GaN型化合物半导体层部分显露出,以提供一可使n型电极有效地形成的导电表面。
参照图1以更具体了解前述现有的蓝光LED,现有的蓝光LED主要包含一蓝宝石基板101、一n型GaN型化合物半导体层102、一有源层103,由一本征或有掺杂的GaN型化合物半导体材料所形成、以及一p型GaN型化合物半导体层104。如前所述,一n型电极105形成于n型GaN型化合物半导体层102的显露表面上,而一p型电极106形成于p型GaN型化合物半导体层104上。
然而,图1所示的现有的蓝光LED具有下文所述的若干缺点。首先,当蓝光LED的绝缘蓝宝石基板101安置于杯型引线框107的表面上时,蓝光LED的绝缘蓝宝石基板101无法与杯型引线框107形成电连接。为了电连接蓝光LED与杯型引线框107,必须使用一金属接合线108,使n型电极105电接合至杯型引线框107的表面,如图2所示。既然必须使用另一金属接合线109,使p型电极106电接合至一分离的引线框110,故打线接合制作工艺必须进行二次,以完全接合现有的蓝光LED。此外,金属接合线109以经由一接合垫111而接合至p型电极106为佳。由于二次打线接合特征,现有的蓝光LED的制作工艺复杂度与蓝光LED的晶粒尺寸都大大增加,导致高的制造成本。
另外,如图3所示,现有的蓝光LED的电极105,106的结构与排列是非对称的,其中图3是图1所示的蓝光LED的顶视图。所以,现有的蓝光LED中的电流不会以对称且沿着上下方位的方向流动。因此,现有的蓝光LED难以实现均匀的电流分散特征。既然电流分散特征是不均匀的,故现有的蓝光LED中存在有若干个高电流密度点,其容易于操作中产生损害。
更且,众所周知的静电放电(electrostatic discharge,ESD)问题不可避免地发生于绝缘蓝宝石基板101中。前述缺点大大降低现有的蓝光LED的性能与可靠性。
据此,期望能提供一种获得单一打线接合特征的蓝光LED,不会大大增加制作工艺复杂度与制造成本。也期望能提供一种获得均匀的电流分散特征且免于ESD问题的蓝光LED。而且,期望能提供一种底表面上设有镜状反射器的蓝光LED,藉以增加蓝光LED的发光效率。
本发明的一个目的在于提供一种发光化合物半导体装置,其获得单一打线接合特征。因此制作工艺复杂度简化且制造成本降低。
本发明的另一目的在于提供一种发光化合物半导体装置,其具有均匀的电流分散特征。
本发明的又一目的在于提供一种发光化合物半导体装置,其免于静电放电问题。
本发明的再一目的在于提供一种发光化合物半导体装置,其具有一形成于底表面上的镜状反射器。
依据本发明的第一方面,一种发光化合物半导体装置包括:一绝缘基板;一第一GaN型半导体层,形成于该绝缘基板的顶表面上,该第一GaN型半导体层的中央部分的表面高于该第一GaN型半导体层的周缘部分的表面;一有源层,形成于该第一GaN型半导体层的中央部分的表面上方,用以产生光;一第二GaN型半导体层,形成于该有源层上方;一第一电极,形成于该第二GaN型半导体层上;以及一导电层,经由涂覆而覆盖该绝缘基板侧壁与底表面且电连接于该第一GaN型半导体层的侧壁。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于连勇科技股份有限公司,未经连勇科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/00128644.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:分离油脂与水并聚集油脂的方法及装置
- 下一篇:防伪IC卡及其防伪方法