[发明专利]氮化铟镓发光二极管有效
申请号: | 00131996.5 | 申请日: | 2000-11-03 |
公开(公告)号: | CN1353465A | 公开(公告)日: | 2002-06-12 |
发明(设计)人: | 刘家呈;许进恭;周铭俊;章绢明;李秉杰 | 申请(专利权)人: | 晶元光电股份有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氮化 发光二极管 | ||
本发明涉及一种发光二极管,特别是涉及一种氮化铟镓发光二极管。
日本Nichia Chemical Industries Ltd.曾在一论文中揭露一种氮化铟镓发光二极管构造,如图1显示,其中包括蓝宝石基层10、氮化镓长晶层(nucleation layer)11、n型氮化镓缓冲层12、n型氮化铝镓束缚层13、纯量子井氮化铟镓发光层14、p型氮化铝镓束缚层15、p型氮化镓接触层16、镍-金导电层17、p型镍-金前电极18,又由于蓝宝石不导电,故须将发光二极管适当地蚀刻至氮化镓缓冲层12,然后在缓冲层12上形成n型钛-铝后电极19。
在现有的发光二极管中,由于p型氮化镓接触层16的导电性不佳,故有必要于其上设置镍-金导电层17,以达到使源自前电极18的电流散布开的效果,但镍-金导电层17的透光率小于百分之五十,使二极管所发出光线中的大部分都被导电层17吸收,因而造成二极管发光效率欠佳的不良结果。
再者,该现有发光二极管有结构复杂的缺点,若能够减少其中的层数,简化制作工艺,则可降低生产成本。
此外,该现有发光二极管中,p型镍-金前电极18与n型钛-铝后电极19由于所使用的材料不同,必须分别在不同的制作工艺中形成在二极管上,造成制作工艺复杂的缺点,若p型前电极与n型后电极能够使用相同的材料,并在同一制作工艺中形成在二极管上,即可简化制作工艺,降低生产成本。
此外,该现有发光二极管中,自前电极18送出的电流,在导电层17中分布开后,向下流至导电层17中,与来自后电极19的电流遭遇,而产生发光作用。然而,在前电极18正下方所发出的光线受前电极18阻挡,造成发光效率不佳的缺点。
本发明的目的在于提供一种氮化铟镓发光二极管,使其中所发出光线的极少部分被导电层吸收,因而能够增进二极管的发光效率。
本发明的另一目的在于提供一种氮化铟镓发光二极管,其结构较简单,因而能够简化二极管制作工艺,从而降低生产成本。
本发明的另一目的在于提供一种氮化铟镓发光二极管,其中p型电极与n型电极使用相同的材料,可在同一制作工艺中形成在二极管上,故能够简化制作工艺,从而降低生产成本。
本发明的又一目的在于提供一种氮化铟镓发光二极管,其中电流的分布受控制,能够减少前电极正下方的电流,进而减小发光层中所发出光线受前电极阻挡的不良效果,并能够增进二极管的发光效率。
本发明的目的是这样实现的,即提供一种发光二极管,包括:一绝缘基层;一p型接触层,形成在该绝缘基层上,其表面分为第一区域及第二区域;一p型束缚层,形成在该p型接触层的第一区域上;一发光层,形成在该p型束缚层上;一n型束缚层,形成在该发光层上;一n型接触层,形成在该n型束缚层上;一n型电极,形成在该n型接触层上;以及一p型电极,形成在该p型接触层的第二区域上。
本发明还提供一种发光二极管,包括:一绝缘基层;一长晶层,形成在该绝缘基层上;一p型接触层,形成在该长晶层上,其表面分为第一区域及第二区域;一p型束缚层,形成在该p型接触层的第一区域上;一发光层,形成在该p型束缚层上;一n型束缚层,形成在该发光层上;一n型接触层,形成在该n型束缚层上;一n型电极,形成在该n型接触层上;以及一p型电极,形成在该p型接触层的该第二区域上。
本发明还提供一种发光二极管,包括:一绝缘基层;一长晶层,形成在该绝缘基层上;一n型缓冲层,形成在该长晶层上;一p型接触层,形成在该缓冲层上,其表面分为第一区域及第二区域;一p型束缚层,形成在该p型接触层的第一区域上;一发光层,形成在该p型束缚层上;一n型束缚层,形成在该发光层上;一n型接触层,形成在该n型束缚层上;一n型电极,形成在该n型接触层上;以及一p型电极,形成在该p型接触层的第二区域上。
本发明还提供一种发光二极管,包括:一绝缘基层;一p型接触层,形成在该绝缘基层上,其表面分为第一区域及第二区域;一p型束缚层,形成在该p型接触层的第一区域上;一发光层,形成在该p型束缚层上;一n型束缚层,形成在该发光层上;一n型接触层,形成在该n型束缚层上;一透明导电层,形成在该n型接触层上;一n型电极,形成在该透明导电层上;以及一p型电极,形成在该p型接触层的第二区域上。
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