[发明专利]在媒体相对面上设置有凸部的磁头滑动块和其制造方法无效
申请号: | 00135801.4 | 申请日: | 2000-12-21 |
公开(公告)号: | CN1307330A | 公开(公告)日: | 2001-08-08 |
发明(设计)人: | 大塚智雄;石原弘久 | 申请(专利权)人: | 阿尔卑斯电气株式会社 |
主分类号: | G11B5/187 | 分类号: | G11B5/187;G11B5/60;G11B21/21 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 媒体 相对 面上 设置 有凸部 磁头 滑动 制造 方法 | ||
1.一种磁头滑动块,其中在滑动块主体内部,设置有磁芯,在上述滑动块主体的磁盘侧的媒体相对面上,形成有浮力产生用的导轨,该磁头滑动块按照相对磁盘,上浮的方式移动,进行磁信息的写入或读取;
在上述滑动块主体的媒体相对面和导轨中的至少导轨的表面上,通过粘接层,设置有具有耐腐蚀性的第1碳膜,在该第1碳膜上,设置交替地形成有中间膜和第2碳膜的凸部,构成该凸部中的第2碳膜中的至少最外层的第2碳膜具有耐磨性。
2.根据权利要求1所述的磁头滑动块,其特征在于具有耐腐蚀性的第1碳膜由氢含量大于30原子%的碳膜形成,具有耐腐蚀性的第2碳膜由膜硬度大于22GPa的碳膜形成。
3.根据权利要求1所述的磁头滑动块,其特征在于上述磁芯具有巨型磁阻效应型元件。
4.一种磁头滑动块的制造方法,其包括下述步骤:在设置有磁芯的滑动块主体的磁盘侧的媒体相对面上,形成粘接层,以及具有耐腐蚀性的第1碳膜;在该第1碳膜上,交替地形成中间膜和第2碳膜,此时至少最外层的第2碳膜具有耐磨性;在上述粘接层,第1碳膜,中间膜和第2碳膜的叠层膜中的至少上述最外层的第2碳膜和其下层的中间膜上,制作图案,形成凸部。
5.根据权利要求4所述的磁头滑动块的制造方法,其特征在于具有耐腐蚀性的第1碳膜由氢含量大于30原子%的碳膜形成,具有耐腐蚀性的第2碳膜由膜硬度大于22GPa的碳膜形成。
6.一种磁头滑动块,其中在板状的滑动块主体内部,设置有磁芯,该磁头滑动块按照相对磁盘,上浮的方式移动,进行磁信息的写入或读取;
在滑动块主体的磁盘侧的媒体相对面上,形成浮力发生用的导轨和/或衬垫,在该导轨和/或衬垫上,设置有膜硬度大于22GPa的凸部。
7.根据权利要求6所述的磁头滑动块,其特征在于上述凸部为氢含量小于43原子%的碳膜。
8.根据权利要求6所述的磁头滑动块,其特征在于上述导轨和/或衬垫形成于上述滑动块主体的磁盘侧的媒体相对面的两边缘部侧,具有从滑动块主体的空气流的流入侧朝向空气流的流出侧延伸的侧轨和/或衬垫,膜硬度大于22GPa的凸部分别靠近上述各侧轨和/或衬垫的空气流的流入侧,和靠近空气流的流出侧形成。
9.根据权利要求6所述的磁头滑动块,其特征在于上述导轨包括侧轨和中间轨,该侧轨形成于上述滑动块主体的磁盘侧的媒体相对面的两缘部侧,从滑动块主体的空气流的流入侧朝向空气流的流出侧延伸,该中间轨形成该两个侧轨之间,膜硬度大于22GPa的凸部至少靠近上述各侧轨中的空气流的流入侧形成。
10.根据权利要求6所述的磁头滑动块,其特征在于上述导轨和或衬垫从上述滑动块主体的空气流的流入侧到空气流的流出侧,设置有多个。
11.根据权利要求6所述的磁头滑动块,其特征在于上述导轨呈拱顶状。
12.根据权利要求6所述的磁头滑动块,其特征在于上述磁芯包括巨型磁阻效应型元件。
13.一种磁头滑动块,其中在滑动块主体内部,设置有磁芯,在上述滑动块主体的磁盘侧的媒体相对面,形成有浮力产生用的导轨,该磁头滑动块按照相对磁盘,上浮的方式移动,进行磁信息的写入或读取;
在滑动块主体的媒体相对面和导轨中的至少导轨上,沿上述滑动块主体的长度方向设置有多个凸部,上述多个凸部中的,设置于最靠近上述磁芯的位置的凸部的高度小于设置于另一位置的凸部的高度。
14.根据权利要求13所述的磁头滑动块,其特征在于上述多个凸部的高度从上述滑动块主体的空气流的流入侧到空气流的流出侧,逐渐减小。
15.根据权利要求13所述的磁头滑动块,其特征在于上述导轨包括侧轨,该侧轨形成于上述滑动块主体的磁盘侧的媒体相对面的两边缘部侧,从上述滑动块主体的空气流的流入侧朝向空气流的流出侧延伸,上述多个凸部沿上述各侧轨的长度方向设置。
16.根据权利要求13所述的磁头滑动块,其特征在于在上述滑动块主体的侧轨之间,形成有槽,上述多个凸部设置于上述各侧轨和槽上。
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