[发明专利]用于胶合两个基片的方法和装置

权利要求书

1．将两个基片(3,6)胶合成一个基片圆盘(23)用的方法，按此方法将一种胶合剂涂敷在一个第一基片(3)的一个待胶合的面上，而将一个第二基片(6)以它的待胶合的面放置在第一基片上，并按此方法将两个基片(3,6)围绕其中轴线加以旋转以达到离心甩出开胶合剂的目的，于此，基片(3,6)中的至少一个在放置到另一个基片(6,3)上去时加以弯曲，使其边缘部位与另一个基片(6,3)相离开，其特征在于：为弯曲至少一个基片(6,3)所用的一个内夹紧器(41)和一个外夹紧器(42)是彼此对向地移动的。

2．如权利要求1中所述的方法，其特征在于：第一基片(3)的待胶合的面在涂敷胶合剂之前先施加预涂层。

3．如权利要求2中所述的方法，其特征在于：胶合剂是一种紫外线塑料漆。

4．如权利要求2中所述的方法，其特征在于：胶合剂按一种胶合剂环的形式涂敷在第一基片(3)的待胶合的面上。

5．如权利要求1中所述的方法，其特征在于：在将第二基片(6)放置在胶合剂上之后，在该基片上施加一个可调节的压力。

6．如权利要求1中所述的方法，其特征在于：在干燥过程中将一块石英板或玻璃板(29)放在基片圆盘(23)上，并石英板或玻璃板(29)在干燥过程结束之后要加以冷却，然后才能将它放置到下一个基片圆盘(23)上去。

7．如权利要求6中所述的方法，其特征在于：石英板或玻璃板(29)是用电离空气进行冷却的。

8．如权利要求6或7之一中所述的方法，其特征在于：干燥是在一种氮气氛围中进行的。

9．如权利要求1中所述的方法，其特征在于：在离心甩出胶合剂之后，胶合好的基片圆盘(23)的边缘加以净化处理。

10．如权利要求9中所述的方法，其特征在于：边缘的净化处理是在站(10)中进行的，在该站中实施基片(3,6)的胶合。

11．如权利要求9或10中所述的方法，其特征在于：一个胶合剂吸尽装置有弹性地夹紧在胶合好的基片圆盘(23)的边缘上。

12．如权利要求1中所述的方法，其特征在于：胶合好的和干燥好的基片圆盘(23)加以针对缺陷的检测。

13．如权利要求1中所述的方法，其特征在于：本方法是用一个数据处理程序加以控制和/或目视监控的。

14．将两个基片(3,6)胶合成一个基片圆盘(23)用的装置，配有至少一个胶合站(10)、至少一个胶合剂涂敷装置(13、14)、至少一个胶合剂离心甩出装置(11、12)和至少一个弯曲装置(40)，用来弯曲待胶合的基片(3,6)中的至少一个使其边缘与另一个基片(6,3)相离，其特征在于：弯曲装置(40)有一个夹紧在待弯曲基片(3,6)的内区上的内夹紧器(41)和一个夹紧在待弯曲基片(3,6)的外区上的外夹紧器(42)，其中内夹紧器(41)和/或外夹紧器(42)可以沿着基片(3,6)的轴向彼此对向地移动。

15．如权利要求14中的所述的装置，其特征在于：内夹紧器(41)和/或外夹紧器(42)都具有吸头(48或46)。

16．如权利要求14中的所述的装置，其特征在于：有一个预涂层装置(17)。

17．如权利要求14中所述的装置，其特征在于：具有一个压力装置，在胶合过程中该压力装置在至少一个基片(圆盘)(3,6)上施加一个可调节的压力。

18．如权利要求14中所述的装置，其特征在于：配置有一个带有一石英板或玻璃板放置装置(28)的干燥站(26)，其中干燥站(26)具有一个石英板或玻璃板冷却装置。

19．如权利要求18中所述的装置，其特征在于：冷却剂是电离的空气。

20．如权利要求18或19中所述的装置，其特征在于：干燥站(26)具有紫外灯；在基片边缘的区域中为紫外灯照射设定了一些反射面。

21．如权利要求14中所述的装置，其特征在于：在干燥站(26)之后设置了一个检测站(34)。

22．如权利要求14中的所述的装置，其特征在于：有一个基片圆盘边缘净化处理装置(15,16)。