[实用新型]沉积类金刚石薄膜的镀膜机无效

专利信息
申请号: 00216701.8 申请日: 2000-03-03
公开(公告)号: CN2408126Y 公开(公告)日: 2000-11-29
发明(设计)人: 楼祺洪;黄峰;李铁军;董景星;魏运荣 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/06
代理公司: 上海华东专利事务所 代理人: 李兰英
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 沉积 金刚石 薄膜 镀膜
【权利要求书】:

1.一种沉积类金刚石薄膜的镀膜机,包括

<1>壁上带有第一透光窗口(401),观察窗口(402),排气口(403),和第二透光窗口(404)的真空室(4);

<2>真空室(4)内有置于旋转支架(7)上的靶材(6)和待沉积薄膜基底(5);

其特征在于:

<3>置于真空室(4)外有光轴对准真空室(4)壁上第一透光窗口(401)中心的光源(1),由光源(1)发射的光束(G)经置于光源(1)与第一透光窗口(401)之间的分束镜(2)将光束(G)分成消融沉积光束(G1)和扫描光束(G2);

<4>由分束镜(2)透过的光束为消融沉积光束(G1)经过置于分束镜(2)与第一透光窗口(401)之间的第一聚焦透镜(3)透过第一透光窗口(401)会聚到置于真空室(1)内的靶材(6)上;

<5>由分束镜(2)反射的光束为扫描光束(G2),经过反射镜(11),第二会聚透镜(10)和置于旋转镜架(8)上的旋转反射镜(9)透过第二透光窗口(404)会聚到置于真空室(4)内的待沉积薄膜基底(5)上。

2.根据权利要求1所述的沉积类金刚石薄膜的镀膜机,其特征在于所说的光源(1)是准分子激光器,或者是半导体激光器,或者是其它固体激光器,或者是其它气体激光器。

3.根据权利要求1所述的沉积类金刚石薄膜的镀膜机,其特征在于所说的靶材(6)是由石墨构成的,或者是由超导材料构成的,或者是由其它金属材料构成的。

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