[实用新型]超宽带砷化镓单片数字、模拟移相器无效
申请号: | 00219705.7 | 申请日: | 2000-03-22 |
公开(公告)号: | CN2424577Y | 公开(公告)日: | 2001-03-21 |
发明(设计)人: | 戴永胜;陈堂胜 | 申请(专利权)人: | 信息产业部电子第五十五研究所 |
主分类号: | H03H17/08 | 分类号: | H03H17/08 |
代理公司: | 东南大学专利事务所 | 代理人: | 沈廉,王之梓 |
地址: | 210016 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 宽带 砷化镓 单片 数字 模拟 移相器 | ||
本实用新型是一种主要用于移动通信、雷达、电子对抗和仪器等电子系统和设备中的部件,属于砷化镓微波单片集成控制电路的技术领域。
在超宽带砷化镓微波单片集成控制电路领域内,由于超宽带砷化镓微波单片集成电路数字、模拟移相器具有工作频率范围宽、体积小、重量轻、开关速度快、无功耗和可靠性高等优点,在许多现代先进的电子系统和设备中倍受欢迎。描述这种产品性能的参数和主要技术指标有:1)工作频率带宽;2)相移位数;3)相移精度(或线性度,模拟移相状态);4)插入损耗;5)各态插入损耗差;6)输入和输出端反射损耗;7)输出功率1分贝压缩;8)开关速度;9)芯片尺寸;10)芯片间电性能一致性。
同类产品由于设计采用的电路拓扑和工艺实现途径的缺陷,存在下列缺点:1)相移精度不够高;2)输入和输出端反射损耗指标较差;3)芯片间电性能由于受工艺控制参数影响一致性差;4)芯片间电性能一致性受工艺控制参数影响小的方案,其插入损耗和各态插入损耗差指标较差;5)芯片尺寸较大;6)工作频率带宽较窄;7)成品率较低。
本实用新型的发明目的就是提供一种能提高相移精度,改善输入和输出端反射损耗指标、使芯片间电性能一致性受工艺控制参数影响最小、减小插入损耗和各态插入损耗差,减小芯片尺寸、展宽工作频率带宽、提高成品率的超宽带砷化镓单片数字,模拟移相器。
本实用新型的超宽带砷化镓单片数字、模拟移相器主要由若干个移相器组合而成,即该移相器由一个180度位开关型数字移相电路、一个90度位反射型数字、模拟兼容移相电路、一个45度位反射型数字、模拟兼容移相电路、一个22.5度和11.25度位反射型数字、模拟兼容移相电路所组成,180度位开关数字移相电路的输入端为信号输入端,180度位开关数字移相电路的输出端接90度位反射型数字、模拟兼容移相电路的输入端,90度位反射型数字、模拟兼容移相电路的输出端接45度位反射型数字、模拟兼容移相电路的输入端,45度位反射型数字、模拟兼容移相电路的输出端接22.5度和11.25度位反射型数字、模拟兼容移相电路的输入端,22.5度和11.25度位反射型数字、模拟兼容移相电路的输出端为信号输出端。180度位开关型数字移相电路中微带线X4的一端接地,另一端接微带线X3和微带线X2,控制端K1通过电阻R1与场效应管T1的栅极相接,控制端K1通过电阻R2与场效应管T2的栅极相连接,控制端K2通过电阻R3与场效应管T3的栅极相接,控制端K2通过电阻R4与场效应管T4的栅极相连接。90度位反射型数字、模拟兼容移相电路中场效应管T6的源极与地之间接有一个电阻R10和一个电容C4,控制端K3接在电阻R7和电阻R9的连接点处。场效应管T5的源极与地之间接有一个电阻R6和一个电容C2。45度位反射型数字、模拟兼容移相电路中场效应管T8的源极与地之间接有一个电阻R16和一个电容C8,场效应管T7的源极与地之间接有一个电阻R12和一个电容C6,控制端K4接在电阻R13和电阻R15的连接点处。22.5度和11.25度位反射型数字,模拟兼容移相电路中场效应管T11的源极与地之间接有一个电阻R23和一个电容C12,场效应管T12的源极与地之间接有一个电阻R22和一个电容C11,场效应管T10的源极与地之间接有一个电阻R9和一个电容C10,场效应管T9的源极与地之间接有一个电阻R18和一个电容C9,控制端K5接在电阻R20和电阻R24的连接点处,控制端K6接电阻R17和电阻R21。
本实用新型的优点在于:
1)180度位:改善了相移精度;减小了芯片尺寸、输入和输出端反射损耗指标、插入损耗和各态插入损耗差、芯片间电性能受工艺控制参数影响的离散性;展宽了工作频率带宽;简化了电路结构和工艺流程;提高了成品率。
2)90度和45度位:相移精度、输入和输出端反射损耗指标、各态插入损耗差改善大;提高了芯片间电性能受工艺控制参数影响一致性;展宽了工作频率带宽;简化了工艺流程;同时实现数字和模拟移相功能(当T5和T6或T7和T8只有导通和关断两种状态时,为数字移相状态。T5和T6或T7和T8的控制电平从零伏时到开关场效应场效应管夹断电压(负极性电压)间均匀变化时,其插入相移也均匀变化,为模拟移相状态);提高了成品率。
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