[发明专利]光吸收图案覆膜制品的制造方法和光吸收图案覆膜制品

权利要求书

1.一种光吸收图案覆膜制品的制造方法，该方法是在基材表面上涂覆含有氧化硅原料、含氧化钛微粒的氧化钛原料和金微粒原料的光吸收覆膜液，在上述覆膜上配置光掩模，对上述涂覆膜照射紫外光，然后加热上述涂覆膜，得到具有与上述光掩模的图案相对应的透过光分光分布的光吸收图案覆膜制品。

2.权利要求1记载的光吸收图案覆膜制品的制造方法，其中上述光吸收覆膜液含有以固体成分的重量％表示的上述氧化硅原料(换算成SiO₂)45～93％、上述氧化钛原料(换算成TiO₂)3～30％、其中氧化钛原料(换算成TiO₂)的至少50重量％为氧化钛微粒，上述金微粒原料(换算成Au)4～30％作为主要成分。

3.权利要求2记载的光吸收图案覆膜制品的制造方法，其中上述光吸收覆膜液除了含有上述氧化硅原料、上述氧化钛原料和上述金微粒原料之外，还含有选自氧化钴、氧化锆、氧化铝、氧化铁、氧化铋、氧化锌、氧化锡、氧化铟、氧化锑、氧化钒、氧化铬、氧化铜、氧化锰、氧化镍、氧化铈、氧化硼、氧化钽、氧化钨和氧化镱等的至少一种的氧化物原料，分别换算成Co₃O₄、ZrO₂、Al₂O₃、Fe₂O₃、Bi₂O₃、ZnO、SnO₂、In₂O₃、Sb₂O₃、V₂O₅、Cr₂O₃、CuO、MnO、NiO、Ce₂O₃、B₂O₃、Ta₂O₅、WO₃和Yb₂O₃总量为15重量％以下。

4.权利要求1～3的任意一项记载的光吸收图案覆膜制品的制造方法，其中上述光掩模具有由微小的紫外线透过区域和微小的紫外线遮蔽区域形成的图案。

5.权利要求1～4的任意一项中记载的光吸收图案覆膜制品的制造方法，其中上述氧化钛微粒的平均粒径为100纳米以下。

6.权利要求1～5的任意一项记载的光吸收图案覆膜制品的制造方法，其中上述基材由玻璃、陶瓷或者树脂制成。

7.一种光吸收图案覆膜制品，该制品是被覆了含有金微粒的氧化硅—氧化钛系光吸收膜的光吸收覆膜制品，其特征在于上述光吸收膜至少具有多个相邻的主要含有用紫外线还原的金微粒并具有粉红色系的透过色调的微小的第一光吸收区域，和主要含有通过热还原的金微粒并具有蓝色系的透过色调的微小的第二光吸收区域。