[发明专利]光敏组合物无效

专利信息
申请号: 00807369.4 申请日: 2000-05-04
公开(公告)号: CN1350660A 公开(公告)日: 2002-05-22
发明(设计)人: F·塞蒂尔布迪 申请(专利权)人: 范蒂科股份公司
主分类号: G03F7/027 分类号: G03F7/027
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘元金,王其灏
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光敏 组合
【权利要求书】:

1.一种光敏的可聚合组合物,该组合物包含至少一种由式(I)的结构单元构成的环状和/或低聚物的化合物式中R是下式的相同或不同基团-(A)-O-C(O)-C(R1)=CH2和R1是氢或甲基,A是一个过渡基团,和n是一个3~18、较好3或4、最好3的整数。

2.按照权利要求1的组合物,该组合物包含至少一种由式(I)的单元构成的环状6员或8员化合物。

3.按照权利要求2的组合物,该组合物包含至少一种式(Ia)的磷腈化合物:式中A、R和R1如权利要求1中所定义。

4.按照权利要求1~3中任何一项的组合物,该组合物包含至少(a)一种成膜性可交联聚合物化合物(基料),(b)一种单体的和/或低聚物的可光聚合化合物,(c)一种光敏引发剂,和(d)至少一种由以上式(I)的单元构成的环状和/或低聚物的化合物,其中,各种符号每一种都有权利要求1~3中提到的含义,而且任选地包含进一步的添加剂。

5.按照权利要求1~4中任何一项的组合物,其中,化合物(a)和(b)的功能组合于一种单一化合物中或不同化合物中。

6.按照权利要求1~5中任何一项的组合物,其中,单体的和/或低聚物的可光聚合化合物(b)包含交联性基团。

7.按照权利要求1~6中任何一项的组合物,其中,成膜性化合物(a)是如此改性的,以致当受到适当照射时它能发生光化学聚合。

8.按照权利要求1~7中任何一项的组合物,该组合物包含由式(I)的单元构成的环状和/或低聚物的磷腈化合物或此类化合物的混合物,以该组合物的成分(a)、(b)、(c)、(d)的干重为基准,其浓度为0.2~10%、较好为1.0~5.0%、更好为1.5~3.7%。

9.按照权利要求1~8中任何一项的组合物,其中,成分(a)是一种环氧丙烯酸酯,而成分(b)是一种可自由基聚合的单体,较好是一种丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯,这些单体可以含有羟基基团。

10.按照权利要求1~9中任何一项的组合物的用途,用作可光构造的阻焊抗蚀剂用于制备印刷电路板焊剂掩蔽层。

11.可从按照权利要求1~9中任何一项的组合物得到的一种焊剂掩蔽层。

12.涂布了一种按照权利要求11的焊剂掩蔽层的一种电路板。

13.一种制备焊剂掩蔽层的方法,该方法包含把按照权利要求1~9中任何一项的组合物施涂到一种基材上,除去任何可能存在的溶剂,以光化辐射按所需图案照射所得到的涂层,借助于一种适用溶剂除去该涂层的未曝光部位并让该基材露出,然后使该基材上剩余的涂层热固化,且需要时在该热固化之前或之后借助于紫外辐射使其固化。

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