[发明专利]磁阻头及其制造方法,以及磁记录重现装置

说明书

技术领域

本发明涉及具有磁阻(MR)元件的MR头，特别涉及对磁介质接触移动的MR头及其制造方法。另外，本发明还涉及使用该MR头的磁记录重现装置。

背景技术

近年来，随着磁记录的高密度化，应用薄膜技术制造的磁头正引人注目。特别是MR头正被用作旋转柱式VTR(磁带录像机)等的磁头(例如，IEEE Transactions on Magnetics，Vol.34，No.4，July1998(Sony))。

图10中给出了MR头(磁轭型)的典型结构的斜视图，图11给出了其剖面图。在该MR头中，图中左侧的侧面10与磁带、磁盘等记录介质相接触。由记录介质产生的磁通量从下部磁轭11传向后上部磁轭13、MR元件14、前上部磁轭15，因MR元件14的磁化旋转产生的电阻变化由输出端点16取出。该MR头进而具有磁隙18、偏磁层19、保护膜20、下部基板21、上部基板22和粘结膜23。另外，为示出其内部结构，在图10中省略了保护膜20、粘结膜23和上部基板22的图示。

MR元件部30由于用薄膜形成技术形成，所以与体材料不同，强度较弱。因此，该元件部被下部基板21和上部基板(增强构件)22夹住。为了与这样的基板结合，在MR元件部30的至少一侧设置了粘结膜23。粘结膜23可使用有机粘结剂。

但是。当使MR头对记录介质滑动时，记录介质的成分就附着到MR头的从对记录介质滑动的面露出的粘结膜23上。反之，粘结膜的成分也附着到记录介质上。由于这些附着，MR头和记录介质双方都易受损伤。

另外，由于粘结膜23与下部基板21和上部基板(增强构件)22的材料不相同，所以随着对记录介质的滑移，MR头容易产生偏磨耗。一旦因偏磨耗，使滑动面上产生台阶，在MR头和记录介质之间就产生间距损耗，使重现特性变坏。

发明内容

因此，本发明的目的在于提供即使对磁记录介质滑动，也能抑制可靠性下降的MR头及其制造方法。另外，本发明的目的还在于提供使用该MR头的磁记录重现装置。

为达到上述目的，在本发明中，在形成了MR元件部的基板和增强构件在对磁记录介质滑动的面上露出的MR头中，以有机物膜不从对磁记录介质滑动的面露出的方式粘结基板和增强构件。

在本发明的MR头的一种形态中，基板和增强构件经非有机物膜相粘结。

在本发明的MR头的另一形态中，基板和增强构件经不在对磁记录介质滑动的面上露出的粘结膜相粘结。该粘结膜可以是有机物膜，也可以是非有机物膜，但以不在从滑动面起沿基板和增强构件的交界面的5μm以内的范围内形成为宜。

另外，为达到上述目的，在本发明中，采用了如下方法进行制造：该方法包括将形成了MR元件部的基板和增强构件在对磁记录介质滑动的面上露出的MR头，在基板的表面形成MR元件部的工序；使形成了该MR元件部的基板的表面平坦化的工序；在平坦化了的基板表面和增强构件的表面分别形成含金属层的非有机物膜的工序；以及借助于对上述金属层进行固相结合，将上述基板和上述增强构件进行结合的工序。

本发明还提供安装了上述MR头的磁记录重现装置以及安装了用上述方法制造的MR头的磁记录重现装置。

附图的简单说明

图1是示出本发明的MR头的一种形态的局部剖面图。

图2是示出本发明的MR头的另一形态的局部剖面图。

图3是示出在MR头制造中使用的基板的一个例子的斜视图。

图4是示出MR头制造工序中形成MR元件部的工序的一个例子的斜视图。

图5是示出用保护膜覆盖图4所示的MR元件部的工序的一个例子的斜视图。

图6是示出进而形成图5所示的保护膜并使其表面平坦化的工序的一个例子的斜视图。

图7是示出将图6所示的基板和增强构件进行结合时的配置状态的斜视图。

图8是示出从图7所示状态将基板和增强构件进行结合以制造MR头的工序的斜视图。

图9是使用本发明的MR头的磁记录重现装置的结构例的配置概略图。

图10是示出现有的MR头的局部剖开的斜视图。

图11是现有的MR头的局部剖面图。

发明的实施形态

以下对本发明的优选实施形态进行说明。