[发明专利]利用磁组件蚀刻薄荫罩的方法无效

专利信息
申请号: 00808764.4 申请日: 2000-06-07
公开(公告)号: CN1399788A 公开(公告)日: 2003-02-26
发明(设计)人: C·C·埃斯莱曼;C·M·维策尔;R·E·麦科伊 申请(专利权)人: 汤姆森许可公司
主分类号: H01J9/14 分类号: H01J9/14
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 章社杲
地址: 法国布洛*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 利用 组件 蚀刻 薄荫罩 方法
【权利要求书】:

1.一种在薄金属片(32,54)上蚀刻孔(44,78)以形成用于彩色显像管的荫罩的方法,所述金属片在其一主层面上具有第一耐酸模版(38,56),在其另一主层面上具有第二耐酸模版(40,58),所述模版的至少一个在其上所述金属片预设为孔的位置处具有开口(42,60,62),所述方法包括下列步骤:

平面磁组件(30,64,72)通过磁力将所述金属片(32,54)固定,所述磁组件包括支承于耐酸板(34,66,74)上的磁性层(36,68,76),以及

移动所述磁组件通过蚀刻腔(12,48,50),同时所述组件通过磁力将所述金属片与之固定。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,仅所述模版中一个(38)在其上所述金属片(32)上预设孔(44)的位置处具有开口(42),所述金属片的位置被设置成使所述模版的所述开口朝上。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,在所述蚀刻腔(12)中仅从所述金属片的上方蚀刻所述金属片(32)。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述磁性层(36,68,76)是面积与所述金属片(32,54)相当的连续矩形。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述磁性层(36,68,76)包括与移动通过所述蚀刻腔(12,48,50)的方向平行排列的磁条。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一(56)和第二(58)耐酸模版都在其上所述金属片(54)上预设孔(78)的位置处具有开口(60,62)。

7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述蚀刻腔(48)具有通过其中的绝缘带(46);所述金属片(54)被设置于所述绝缘带之下,且所述第一耐酸模版(56)朝上;所述磁组件(64)被设置于所述绝缘带之上,且所述磁性层(68)朝下通过磁力将所述金属片与所述绝缘带固定;所述绝缘带连同其上的磁组件和金属片移动通过所述蚀刻腔;以及所述金属片从其底面被部分蚀穿。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述被部分蚀刻的金属片(54)被转移至第二磁组件(72)并被其以磁力固定;所述第二磁组件转移到所述绝缘带(46)的上面,且所述金属片上的所述第二耐酸模版(58)朝上;以及所述第二装置和金属片通过第二蚀刻腔(50),在其中完成所述金属片上所述孔(78)的蚀穿。

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