[发明专利]光存储介质的修复装置和方法无效

专利信息
申请号: 00809982.0 申请日: 2000-07-06
公开(公告)号: CN1362906A 公开(公告)日: 2002-08-07
发明(设计)人: 凯文·克里格;瑟欧多·A·汤普逊 申请(专利权)人: 凯文·克里格;瑟欧多·A·汤普逊
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 王宏祥
地址: 美国蒙*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 存储 介质 修复 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种用于去除光存储介质顶面层中所存在的表面缺陷的修复装置,所述修复装置包括:

保持光存储介质与一流体修复材料至少部分地流体相通并允许所述存储介质自由转动的装置;

去除所述光存储介质的至少一部分顶面层、从而去除所述顶面层内所存在的至少部分缺陷的装置;以及

对所述存储介质顶面进行抛光以恢复所述存储介质的可用性的装置。

2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,它还包括为所述存储介质保持装置、表面去除装置和抛光装置提供结构支承的装置。

3.如权利要求2所述的装置,其特征在于,所述结构支承装置形成一容纳至少一种用于修复所述光存储介质的流体修复材料的内部壳体装置。

4.如权利要求1所述的装置,其特征在于,它还包括电子控制所述表面去除装置和所述抛光装置的操作的电子控制装置。

5.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述保持装置包括:

一保持盘,其内部的尺寸和形状制成为可拆地容纳所述光存储介质;

一轴承组件,它可操作地连接于所述保持盘而允许所述保持盘在所述光存储介质容纳于其中时自由转动;以及

一能容纳所述保持盘和所述轴承组件的流体密封凹陷,使容纳于所述保持盘内的所述光存储介质能设置成与所述流体修复材料至少部分地流体相通。

6.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述表面去除装置和抛光装置包括:

一抛光头,其表面可选择性地连接修复材料,所述修复材料包括以下材料中的至少一种:研磨材料和抛光材料;以及

可操作地操纵抵靠于所述光存储介质的至少一部分表面的所述抛光头及选择性连接的修复材料的装置。

7.如权利要求6所述的装置,其特征在于,所述表面去除装置和抛光装置还包括一具有一内部壳体的支臂组件,所述内部壳体的尺寸和形状制成为可容纳所述抛光头和所述抛光头操纵装置,并且所述支臂组件可移动地连接于一支承表面而使所述支臂组件可用于将所述抛光头和选择性连接的所述修复材料选择性地置靠于所述光存储介质的至少一部分表面。

8.如权利要求6所述的装置,其特征在于,所述抛光头操纵装置由一电动机构成,它能转动抵靠于所述光存储介质的至少一部分表面的所述抛光头及选择性连接的所述修复材料。

9.如权利要求8所述的装置,其特征在于,所述抛光头抵靠于所述光存储介质表面的转动使所述保持盘和所述光存储介质沿相反于所述抛光头转动的方向转动。

10.一种用于去除光存储介质表面的缺陷的方法,所述方法包括以下步骤:

使所述光存储介质定位而使所述存储介质的表面与一润滑剂流体相通;

操作抵靠于所述存储介质的表面的一研磨修复材料,以去除至少部分表面并进而去除所述表面内所存在的缺陷;

除去与所述存储介质表面接触的润滑剂;

使所述光存储介质定位而使所述存储介质的表面与一抛光溶液流体相通;以及

操作抵靠于所述存储介质的表面的一非研磨抛光介质达一段足以在所述存储介质表面增加一新保护层的时间。

11.如权利要求10所述的方法,其特征在于,它在缺陷去除和抛光步骤之后还包括去除留在所述存储介质表面上的任何残留颗粒的步骤。

12.如权利要求11所述的方法,其特征在于,所述去除残留颗粒的步骤包括用一水基溶液清洗所述光存储介质表面。

13.如权利要求10所述的方法,其特征在于,它还包括用一抛光介质抛光所述存储介质表面的步骤。

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