[发明专利]在带电微单元上进行操作的方法及装置无效
申请号: | 00812184.2 | 申请日: | 2000-08-25 |
公开(公告)号: | CN1371303A | 公开(公告)日: | 2002-09-25 |
发明(设计)人: | 史蒂文·S·赫瑞克 | 申请(专利权)人: | 皮科格瑞姆公司 |
主分类号: | B01J19/00 | 分类号: | B01J19/00;C07H21/00;G01N33/543;C07K1/04 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 黄革生,刘金辉 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 带电 单元 进行 操作 方法 装置 | ||
1.在多个微单元上进行至少一个操作的方法,微单元的容量至少大约5ml,使用了带电微粒气雾和在所选电压处控制微电极的基底,以致于在所述微电极和所述气雾中的带电微粒之间产生的电势梯度可引起所述微粒被吸引至所选的第一组微单元上,并被所选的第二组微单元排斥,该方法包括:
(1)为进行所述操作,形成至少包含一种化学成分的单极性微粒气雾;
(2)将上述气雾引导接近所述微单元,其中接近微单元的具有低电势的微粒被上述微单元捕捉;
在需要时对相同或不同微单元重复步骤(1)和(2);
由此在上述许多微单元中的至少一部分上进行所述操作。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述操作是制备低聚核苷酸,其中步骤(1)中所述化学成分是为制备所述低聚核苷酸而外加到在先连接核苷酸上的核苷酸衍生物,该核苷酸衍生物含有保护基团,并且在步骤(1)和(2)完成后,加入化学成分来脱保护或将所述保护基团通过光分解、热、电分解去除。
3.根据权利要求1所述的方法,其中所述操作是制备低聚核苷酸,其中步骤(1)中所述化学成分是为制备所述低聚核苷酸而外加到在先连接核苷酸上的核苷酸衍生物,该核苷酸衍生物含有保护基团,为加入所述核苷酸衍生物每一微单元有末端脱氧转移酶,并且在步骤(1)和(2)完成后,加入化学成分来脱保护或将所述保护基团通过光分解、热、电分解去除。
4.根据权利要求1所述的方法,其中所述操作是制备低聚肽,其中步骤(1)中所述化学成分是为制备所述低聚肽而外加到在先氨基酸上的氨基酸衍生物,它含有保护基团,并且在步骤(1)和(2)完成后,加入化学成分来脱保护或将所述保护基团通过光分解、热、电分解去除。
5.根据权利要求1所述的方法,包括在重复步骤(1)和(2)之前另有冲洗所述微单元的步骤。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征为步骤(1)中所述化学成分是制备合成中的合成纤维。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征为所述气雾垂直应用到上述基底上。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征为所述气雾平行应用到上述基底上。
9.根据权利要求1所述的方法,其特征为所述气雾与上述基底既不平行也不垂直,而是成其他方向。
10.在多个微单元上进行至少一个操作的方法,微单元的容量至少大约500μl,使用了带电微粒气雾和在所选电压处控制微电极的基底,以致于在所述微电极和所述气雾中的带电微粒之间产生的电势梯度可引起所述微粒被吸引至所选的第一组微单元上:
(1)为进行所述操作,形成至少包含一种化学成分的单极性带电微粒气雾;
(2)将上述气雾引导接近所述微单元,其中接近微单元的具有低电势的微粒被上述微单元捕捉;
在需要时对相同或不同微单元重复步骤(1)和(2);
在每一阶段记录所述微单元和所述至少一种化学成分为在每一微单元上进行的操作历史。
由此在上述许多微单元中的至少一部分上进行所述操作。
11.根据权利要求10所述的方法,其特征为所述操作是制备从含有低聚核苷酸和低聚肽的组中选出的低聚物,其中步骤(1)中所述化学成分包含保护基团,并且它是从含有核苷酸衍生物或氨基酸衍生物的组中选出的单体,它为制备所述低聚物而外加到在先单体上,并且在步骤(1)和(2)完成后,加入化学成分来脱保护或将所述保护基团通过光分解、热、电分解去除,由此产生低聚物阵列。
12.根据权利要求11所述的方法,其特征为所述阵列至少与一种化合物接触以检测上述化合物对阵列中的一种低聚物的连接。
13.根据权利要求11所述的方法,其特征为所述阵列至少与一种化合物接触以检测上述化合物对一种低聚物和标记竞争化合物之间的连接。
14.根据权利要求11所述的方法,其特征为所述微单元上含有珠粒,在其上至少一种所述化学成分变为结合的。
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